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1. (WO2004013696) パターン寸法補正装置及びパターン寸法補正方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2004/013696    国際出願番号:    PCT/JP2003/004616
国際公開日: 12.02.2004 国際出願日: 11.04.2003
IPC:
A61N 5/00 (2006.01), G03F 1/36 (2012.01), G03F 1/70 (2012.01), H01J 37/08 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
出願人: FUJITSU LIMITED [JP/JP]; 1-1, Kamikodanaka 4-chome, Nakahara-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa 211-8588 (JP) (米国を除く全ての指定国).
AOYAMA, Hajime [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
OSAWA, Morimi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
YAO, Teruyoshi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
OGINO, Kozo [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: AOYAMA, Hajime; (JP).
OSAWA, Morimi; (JP).
YAO, Teruyoshi; (JP).
OGINO, Kozo; (JP)
代理人: KOKUBUN, Takayoshi; 5th Floor, Ikebukuro TG Homest Building, 17-8, Higashi-Ikebukuro 1-chome, Toshima-ku, Tokyo 170-0013 (JP)
優先権情報:
2002-224036 31.07.2002 JP
2002-322899 06.11.2002 JP
発明の名称: (EN) PATTERN SIZE CORRECTING DEVICE AND PATTERN SIZE CORRECTING METHOD
(FR) DISPOSITIF ET PROCEDE SERVANT A CORRIGER LA DIMENSION D'UN MOTIF
(JA) パターン寸法補正装置及びパターン寸法補正方法
要約: front page image
(EN)A pattern size correcting device comprising a testing photomask (1) having a test pattern, a quantifying means (2) for quantifying, by using the testing photomask (1), variations in test pattern size as a function of a distance and in relation to numerical apertuture, a numerical aperture calculating means (3) for dividing an exposure area having a plurality of real device patterns into a plurality of correction areas to calculate numerical apertures for respective correction areas, a data correcting means (4) for inputting numerical apertures calculated in the aperture calculating means (3) to the quantified results using the testing photomask (1), calculating, for respective correction areas, variations in real device pattern size, and correcting the design data of a real device pattern based on the results of the calculation, and a proximity effect correcting means (5) for correcting a proximity effect. This correcting device enables us to quantitatively estimate variations in size occurring in a pattern to be exposed in lithography and, based on this, to accurately correct a pattern size easily.
(FR)Dispositif servant à corriger la dimension d'un motif et comprenant un photomasque de contrôle (1) possédant un motif de contrôle, des moyens de quantification (2) servant à quantifier, au moyen de ce photomasque (1), des variations de la dimension du motif de contrôle en fonction d'une distance et par rapport à une ouverture numérique, des moyens de calcul (3) d'ouverture numérique servant à diviser une zone d'exposition possédant une pluralité de motifs réels en une pluralité de zones de correction afin de calculer des ouvertures numériques pour ces zones de correction respectives, des moyens de correction de données (4) servant à introduire des ouvertures numériques calculées dans les moyens de calcul d'ouverture (3) dans les résultats quantifiés au moyen du photomasque de contrôle (1), à calculer, pour les zones de correction respectives, des variations de la dimension de motifs réels, et à corriger les données de conception d'un motif réel en fonction des résultats du calcul, ainsi que des moyens de correction (5) d'effet de proximité servant à corriger un effet de proximité. Ce dispositif de correction permet d'évaluer quantitativement des variations de dimension apparaissant dans un motif devant être exposé en lithographie et, en fonction de cela, de corriger une dimension de motifs avec précision et sans difficulté.
(JA)テストパターンを有する試験用フォトマスク(1)と、この試験用フォトマスク1を用いて、テストパターンにおける寸法変動を距離の関数として開口率との関係で定量化する定量化手段(2)と、複数の実デバイスパターンを有する露光領域を複数の補正領域に分割し、補正領域ごとに開口率を算出する開口率算出手段(3)と、開口率算出手段(3)で算出された開口率を試験用フォトマスク(1)を用いた定量化の結果に入力して、実デバイスパターンの寸法変動を補正領域ごとに算出し、これに基づき実デバイスパターンの設計データを補正するデータ補正手段(4)と、近接効果を補正する近接効果補正手段(5)とから補正装置が構成される。この補正装置により、リソグラフィーにおいて露光されるパターンに発生する寸法変動を定量的に見積もり、これに基づいてパターン寸法を容易且つ正確に補正することができる。
指定国: CN, KR, US.
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, SI, SK, TR).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)