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1. (WO2004011967) 回折光学素子、照明光学装置、露光装置および露光方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2004/011967    国際出願番号:    PCT/JP2003/009352
国際公開日: 05.02.2004 国際出願日: 23.07.2003
IPC:
G02B 27/44 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01)
出願人: NIKON CORPORATION [JP/JP]; 2-3, Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 100-8331 (JP) (AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BE, BF, BG, BJ, BR, BY, BZ, CA, CF, CG, CH, CI, CM, CN, CO, CR, CU, CY, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, FR, GA, GB, GD, GE, GH, GM, GN, GQ, GR, GW, HR, HU, ID, IE, IL, IN, IS, IT, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MC, MD, MG, MK, ML, MN, MR, MW, MX, MZ, NE, NL, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SI, SK, SL, SN, SZ, TD, TG, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW only).
GOTO, Akihiro [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
KITA, Naonori [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: GOTO, Akihiro; (JP).
KITA, Naonori; (JP)
代理人: YAMAGUCHI, Takao; Daiichi Bldg., 10, Kanda-tsukasacho 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 101-0048 (JP)
優先権情報:
2002-218093 26.07.2002 JP
発明の名称: (EN) DIFFRACTIVE OPTICS, ILLUMIINATING OPTICAL SYSTEM, EXPOSURE SYSTEM AND EXPOSURE METHOD
(FR) OPTIQUES DE DIFFRACTION, SYSTEME OPTIQUE D'ECLAIRAGE ET PROCEDE ET SYSTEME D'EXPOSITION
(JA) 回折光学素子、照明光学装置、露光装置および露光方法
要約: front page image
(EN)An illuminating optical system capable of a good four-pole illumination with a restricted loss in light quantity by using a diffractive optics for forming a substantially uniform four-pole-form illumination distribution on an illumination pupil plane. An illumination optical system for illuminating surfaces to be illuminated (13, 15). A diffractive optics (61) is provided for converting an incident light flux into four light fluxes in order to form a secondary light source having a four-pole-form light intensity distribution on an illumination pupil plane. The diffractive optics comprises a first basic diffractive optics, a second basic diffractive optics, a first complementary diffractive optics, and a second complementary diffractive optics that are densely arranged, all in equal numbers.
(FR)L'invention concerne un système optique d'éclairage, avec un bon éclairage sur quatre pôles et perte réduite en quantité de lumière grâce à des optiques de diffraction formant une distribution d'éclairage de forme quadripolaire sensiblement uniforme. Elle concerne aussi un système optique d'éclairage destiné à l'éclairage de surfaces (13, 15). Elle concerne encore des optiques de diffraction (61) destinées à convertir un flux lumineux incident en quatre flux lumineux de façon à former une source lumineuse secondaire de distribution quadripolaire de l'intensité lumineuse sur un plan d'éclairement de pupille. Les optiques de diffraction comprennent une première optique de diffraction de base, une seconde optique de diffraction de base, une première optique de diffraction complémentaire, et une seconde optique de diffraction complémentaire, disposées de façon compacte, toutes en nombres égaux.
(JA)照明瞳面において実質的に均一な4極状の照度分布を形成する回折光学素子を用いて、光量損失を抑えつつ良好な4極照明を行うことのできる照明光学装置。被照射面(13,15)を照明する照明光学装置。4極状の光強度分布を有する二次光源を照明瞳面に形成するために、入射光束を4つの光束に変換するための回折光学素子(61)を備えている。回折光学素子では、第1基本回折光学素子と、第2基本回折光学素子と、第1補完回折光学素子と、第2補完回折光学素子とが同数だけ稠密配列されている。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)