WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | Français | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |

World Intellectual Property Organization
1. (WO2004011243) 反射防止フィルム及び反射防止処理された物体

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2004/011243    国際出願番号:    PCT/JP2003/009499
国際公開日: 05.02.2004 国際出願日: 25.07.2003
G02B 1/11 (2006.01)
出願人: TDK CORPORATION [JP/JP]; 1-13-1, Nihonbashi, Chuo-ku, Tokyo 103-8272 (JP) (AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BE, BF, BG, BJ, BR, BY, BZ, CA, CF, CG, CH, CI, CM, CN, CO, CR, CU, CY, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, FR, GA, GB, GD, GE, GH, GM, GN, GQ, GR, GW, HR, HU, ID, IE, IL, IN, IS, IT, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MC, MD, MG, MK, ML, MN, MR, MW, MX, MZ, NE, NI, NL, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SI, SK, SL, SN, SY, SZ, TD, TG, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW only).
IIJIMA, Tadayoshi [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: IIJIMA, Tadayoshi; (JP)
代理人: OKADA, Masahiro; Okada & Co., 12th Shinko Bldg. 10F, 1-6, Zaimoku-cho, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 540-0010 (JP)
2002-222900 31.07.2002 JP
(JA) 反射防止フィルム及び反射防止処理された物体
要約: front page image
(EN)An antireflection film for transfer that excels in not only the effect of preventing the reflection of light of visible region but also resistance to solvents and is capable of providing the surface of an object of poor flexibility such as a board with an antireflection layer of uniform thickness by transfer; and an object having undergone antireflection treatment. In particular, an antireflection film for transfer comprising support (1) and, superimposed in sequence thereon, antireflection layer (2), the antireflection layer (2) comprising low-refractive-index layer (2a) provided on the support (1) and high-refractive-index layer (2b) provided on the low-refractive-index layer (2a) and having a refractive index higher than that of the low-refractive-index layer, and adhesive layer (3), wherein the high-refractive-index layer (2b) contains fine particles of metal oxide and a photopolymerization initiator and/or a photosensitizer, wherein the adhesive constituting the adhesive layer (3) is one being curable by actinic energy rays, the high-refractive-index layer (2b) impregnated with portion of the adhesive and wherein the support (1) can be detached from the antireflection layer (2).
(FR)L'invention porte sur: un film antireflets de transfert excellent non seulement parce qu'il empêche la réflexion de la lumière visible, mais aussi pour sa résistance aux solvants, et qui peut former par transfert sur un objet peu souple tel qu'un tableau une couche antireflets d'épaisseur uniforme; et sur un objet ayant subi un traitement antireflets. L'invention porte en particulier sur un film antireflets comprenant: un support (1) revêtu dans l'ordre: d'une couche antireflets (2), d'une couche à faible indice de réfraction (2a) déposée sur le support (1), d'une couche (2b) à fort indice de réfraction (2b) déposée sur la couche (2a), et d'une couche adhésive (3) déposée sur la couche (2b), La couche (2b) à fort indice de réfraction contient de fines particules d'oxyde métallique et un amorceur de photopolymérisation et/ou un photosensibiliseur. L'adhésif de la couche adhésive (3) est du type actinopolymérisable. La couche (2b) à fort indice de réfraction est imprégnée par une portion de l'adhésif. Le support (1) peut être détaché de la couche antireflets (2).
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)