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World Intellectual Property Organization
1. (WO2004009493) Si製造方法

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2004/009493    国際出願番号:    PCT/JP2003/009275
国際公開日: 29.01.2004 国際出願日: 22.07.2003
C01B 33/021 (2006.01)
出願人: NIPPON STEEL CORPORATION [JP/JP]; 6-3, Otemachi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 100-8071 (JP) (米国を除く全ての指定国).
KONDO, Jiro [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
OKAJIMA, Masaki [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
TOKUMARU, Shinji [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
DOHNOMAE, Hitoshi [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: KONDO, Jiro; (JP).
OKAJIMA, Masaki; (JP).
TOKUMARU, Shinji; (JP).
DOHNOMAE, Hitoshi; (JP)
代理人: AOKI, Atsushi; A. AOKI, ISHIDA & ASSOCIATES, Toranomon 37 Mori Bldg., 5-1, Toranomon 3-chome, Minato-ku, Tokyo 105-8423 (JP)
2002-213853 23.07.2002 JP
(JA) Si製造方法
要約: front page image
(EN)A method for producing Si, characterized in that it comprises adding, to an SiO solid, an oxide, a hydroxide, a carbonate or a fluoride of an alkali metal element, or an oxide, a hydroxide, a carbonate or a fluoride of an alkaline earth metal element, or two or more of the above-mentioned compounds in a total molar amount of 1/20 to 1000 times that of the SiO solid to prepare a mixture, heating the mixture to a temperature from the melting point of Si to 2000 ° C, to effect a reaction for forming Si, and separating the resulting Si from reaction by-products for recovery. The method can be used for producing Si, at a low cost with good efficiency, from SiO solids in various forms which are formed in a Si production process and the like and have conventionally had no industrial value.
(FR)L'invention concerne un procédé de production de silicium, Si, qui consiste à ajouter à un solide SiO, un oxyde, un hydroxyde, un carbonate ou un fluorure d'un élément métallique alcalino-terreux, ou au moins deux des composés susmentionnés en quantité molaire totale de 1/20 à 1000 fois celle du solide SiO pour préparer un mélange, à chauffer ce mélange à une température allant du point de fusion de Si jusqu'à 2000 °C, de façon à réaliser une réaction pour former Si, et à séparer le Si résultant des produits de réaction secondaires aux fins de sa récupération. Le procédé peut être utilisé pour produire Si à faible coût et avec un bon rendement, à partir de solides SiO sous diverses formes qui se produisent dans un processus de production de Si et analogue et n'ayant conventionnellement aucune valeur industrielle.
(JA)Si製造工程等から発生する工業的価値の無かった各種形態の SiO固体から、Siを安価に効率良く製造することを目標として、 SiO固体へ、アルカリ金属元素の酸化物、水酸化物、炭酸化物、フッ化物のいずれか、又はアルカリ土類金属元素の酸化物、水酸化物、炭酸化物、フッ化物のいずれか、又はこれらの化合物の2種以上を、総量のモル数が SiO固体のモル数の1/20以上1000倍以下となる量を添加し、該混合物をSiの融点以上2000℃以下に加熱し、化学反応を行わせることによりSiを生成させ、該Siを反応副生成物から分離回収することを特徴とするSi製造方法を提供する。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)