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1. (WO2004008517) 有機シロキサン共重合体膜、その製造方法、及び成長装置、並びに該共重合体膜を用いた半導体装置
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2004/008517    国際出願番号:    PCT/JP2003/008989
国際公開日: 22.01.2004 国際出願日: 15.07.2003
予備審査請求日:    15.07.2003    
IPC:
C08G 77/06 (2006.01), C09D 4/00 (2006.01), C23C 16/40 (2006.01), H01L 21/312 (2006.01), H01L 21/768 (2006.01)
出願人: NEC CORPORATION [JP/JP]; 7-1, Shiba 5-chome, Minato-ku, Tokyo 108-8001 (JP) (米国を除く全ての指定国).
HAYASHI, Yoshihiro [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: HAYASHI, Yoshihiro; (JP)
代理人: HAMADA, Haruo; Wisdom House, 4-12, Minami-Aoyama 3-chome, Minato-ku, Tokyo 107-0062 (JP)
優先権情報:
2002-205468 15.07.2002 JP
発明の名称: (EN) ORGANIC SILOXANE COPOLYMER FILM, METHOD AND DEPOSITION APPARATUS FOR PRODUCING SAME, AND SEMICONDUCTOR DEVICE USING SUCH COPOLYMER FILM
(FR) COUCHE MINCE COPOLYMERE A SILOXANE ORGANIQUE, SON PROCEDE ET APPAREIL DE PRODUCTION ET DISPOSITIF A SEMI-CONDUCTEUR UTILISANT CETTE COUCHE MINCE COPOLYMERE
(JA) 有機シロキサン共重合体膜、その製造方法、及び成長装置、並びに該共重合体膜を用いた半導体装置
要約: front page image
(EN)An insulating organic polymer film suitable for an interlayer dielectric film, which separates a multilayer copper interconnect of a semiconductor device, having an excellent mechanical strength and adhesion at the interface with an inorganic dielectric film lying as a lower or upper layer and a low effective relative dielectric constant as the entire film. An organic siloxane copolymer film is produced by polymerizing a cyclic siloziane and a straight-chain siloxane, which are used as raw materials, by plasma excitation. The organic siloxane copolymer film has a film composition principally formed of the straight-chain siloxane component at the interface with an inorganic dielectric film, thereby constituting a dense interfacial layer having a film property of excellent adhesion. The organic siloxane copolymer film has therein a layer containing a cycle siloxyane component where voids surrounded by a cyclic siloxne skeleton are and present and a straight-chain siloxane component and has a network structure with a relatively reduced density Accordingly, such a copolymer film has a composition changing in the direction of film thickness, and a multilayer interconnect is formed by embedding a copper film thereinto.
(FR)L'invention concerne une couche mince polymère organique isolante appropriée pour une couche mince diélectrique intercouche, laquelle sépare une interconnexion en cuivre multicouche d'un dispositif à semi-conducteur, présentant une excellente résistance et adhésion mécanique à l'interface avec une couche mince diélectrique inorganique posée en tant que couche inférieure ou supérieure et ayant une constante diélectrique relative efficace basse en tant que couche mince dans sa totalité. Une couche mince copolymère à siloxane organique est produite par polymérisation d'un siloxane cyclique et d'un siloxane à chaîne droite, lesquels sont utilisés comme matières premières, par excitation au plasma. La couche mince copolymère à siloxane organique présente une composition de couche mince composée principalement de la composante siloxane à chaîne droite à l'interface avec une couche mince diélectrique inorganique, constituant ainsi une couche interfaciale dense ayant une propriété de couche mince d'excellente adhésion. La couche mince copolymère à siloxane organique contient une couche contenant une composante siloxane cyclique ou se trouvent de vides entourés par un squelette siloxane cyclique, et une composante siloxane à chaîne droite, et elle comporte une structure de réseau ayant une densité relativement réduite. Par conséquent, une telle couche mince copolymère présente une composition changeant dans le sens de l'épaisseur de la couche mince, et une interconnexion multicouche est formée par intégration d'une couche mince en cuivre dans celle-ci.
(JA)半導体デバイスの多層銅配線を分離する層間絶縁膜に適する、下地あるいは上層の無機絶縁膜と接する界面においは、機械的強度と密着性に優れ、かつ膜全体としては、実効比誘電率の低い、絶縁性有機重合体膜を提供する。環状シロキサンと、直鎖状シロキサンとを原料とし、両者をプラズマ励起して重合させた有機シロキサン共重合体膜であり、無機絶縁膜と接する界面に、直鎖状シロキサン成分を主成分とする膜組成とすることで、緻密かつ密着性に優れた膜質の界面層を設け、膜内部には、環状シロキサン骨格に囲まれた空孔を内在する環状シロキサン成分と、直鎖状シロキサン成分とが混在し、相対的に密度を抑えた網目構造を有する層を有する、膜厚方向に組成変化を有する該共重合体膜に、銅薄膜を埋め込んだ多層配線を形成する。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NI, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)