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1. (WO2004007206) 液体噴射ヘッド及びその製造方法並びに液体噴射装置
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2004/007206    国際出願番号:    PCT/JP2003/008773
国際公開日: 22.01.2004 国際出願日: 10.07.2003
IPC:
B41J 2/14 (2006.01), B41J 2/16 (2006.01)
出願人: SEIKO EPSON CORPORATION [JP/JP]; 4-1, Nishi-Shinjuku, 2-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 163-0811 (JP) (米国を除く全ての指定国).
YASOSHIMA, Takashi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
SHIMADA, Masato [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
MATSUZAWA, Akira [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: YASOSHIMA, Takashi; (JP).
SHIMADA, Masato; (JP).
MATSUZAWA, Akira; (JP)
代理人: KURIHARA, Hiroyuki; Kurihara International Patent Office, Iwasaki Bldg. 7F, 3-15 Hiroo 1-chome, Shibuya-ku, Tokyo 150-0012 (JP)
優先権情報:
2002-201296 10.07.2002 JP
2002-226172 02.08.2002 JP
2002-227840 05.08.2002 JP
2003-1077 07.01.2003 JP
2003-193909 08.07.2003 JP
発明の名称: (EN) FLUID INJECTION HEAD, METHOD OF MANUFACTURING THE INJECTION HEAD, AND FLUID INJECTION DEVICE
(FR) TETE D'INJECTION DE FLUIDE, SON PROCEDE DE FABRICATION ET DISPOSITIF D'INJECTION DE FLUIDE
(JA) 液体噴射ヘッド及びその製造方法並びに液体噴射装置
要約: front page image
(EN)A fluid injection head capable of keeping constant fluid jetting characteristics for a long period and preventing a nozzle from being clogged , a method of manufacturing the injection head, and a fluid injection device, the fluid injection head comprising a flow passage forming substrate (10) formed of a silicon single crystal substrate and having pressure generating chambers (12) communicating with a nozzle opening formed therein and pressure generating elements (300) generating pressure variations in the pressure generating chambers (12), wherein fluid-resistant protective films (100) formed of tantalum oxide are formed at least on the surfaces of the inner walls of the pressure generating chambers (12).
(FR)L'invention porte sur une tête d'injection de fluide capable de conserver des caractéristiques de jet de fluide constant sur une longue durée et empêchant l'obturation d'un ajutage. L'invention porte également sur un procédé de fabrication de la tête d'injection et d'un dispositif d'injection de fluide, la tête d'injection comprenant un substrat (10) formant un canal d'écoulement constitué d'un substrat de monocristal de silicium et possédant une chambre de génération de pression (12) communiquant avec un orifice d'ajutage et des éléments de génération de pression (300) générant des variations de pression dans les chambres (12). Les films protecteurs résistant au fluide (100) formés dans un oxyde de tantale sont formés sur au moins les surfaces des parois internes des chambres de génération de pression (12).
(JA)not available
指定国: CN, US.
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, RO, SE, SI, SK, TR).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)