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1. (WO2004006308) 照明方法並びに露光方法及びその装置
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2004/006308    国際出願番号:    PCT/JP2003/008399
国際公開日: 15.01.2004 国際出願日: 02.07.2003
IPC:
G02B 3/00 (2006.01), G02B 19/00 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01)
出願人: HITACHI, LTD. [JP/JP]; 6-6, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 100-8280 (JP) (米国を除く全ての指定国).
HITACHI VIA MECHANICS, LTD. [JP/JP]; 2100, Kamiimaizumi, Ebina-shi, Kanagawa 243-0488 (JP) (米国を除く全ての指定国).
OSHIDA, Yoshitada [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
MARUYAMA, Shigenobu [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
KOBAYASHI, Kazuo [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
NAITOU, Yoshitatu [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
OSAKA, Yoshihisa [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: OSHIDA, Yoshitada; (JP).
MARUYAMA, Shigenobu; (JP).
KOBAYASHI, Kazuo; (JP).
NAITOU, Yoshitatu; (JP).
OSAKA, Yoshihisa; (JP)
代理人: OGAWA, Katsuo; Nitto International Patent Office, Yusenkayabacho Building, 9-8, Nihonbashi-kayabacho 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 103-0025 (JP)
優先権情報:
2002-195086 03.07.2002 JP
発明の名称: (EN) ILLUMINATING METHOD, EXPOSING METHOD, AND DEVICE FOR THEREFOR
(FR) PROCEDE D'ECLAIREMENT, PROCEDE D'EXPOSITION ET DISPOSITIF ASSOCIE
(JA) 照明方法並びに露光方法及びその装置
要約: front page image
(EN)An exposing device characterized by comprising an illuminating optical system having a light source array where discrete light sources are arranged one- or two-dimensionally, a focusing optical system for focusing the light beams emitted from the light sources of the light source array, and a light integrator composed of a plurality of rod lenses for spatially decomposing the light beams focused by the focusing optical system and generating a plurality of pseudo-secondary light sources and having a ratio r1/r0 of 0.8 to 1.2 where r1 is the aspect ration of the cross section vertical to the optical axis of each rod lens and r0 is the aspect ratio of an area (21) to be illuminated, and a condenser lens for combining the light beams from the pseudo-secondary light sources generated by the light integrator and illuminating with the light the area having a pattern to be exposed; and a projection optical system for projecting the light transmitted through or reflected from the pattern illuminated by the illuminating system and to be exposed onto the area on the object to be exposed so as to expose the area to the light. An exposing method is also disclosed.
(FR)L'invention a trait à un dispositif d'exposition caractérisé en ce qu'il comprend : un système optique d'éclairement comportant un réseau de sources lumineuses dans lequel les sources lumineuses sont disposées de manière unidimensionnelle ou bidimensionnelle, un système optique de focalisation pour focaliser les faisceaux lumineux émis par les sources lumineuses dudit réseau, un intégrateur de lumière composé d'une pluralité de lentilles barreaux pour décomposer spatialement les faisceaux lumineux concentrés par le système optique et produire une pluralité de sources lumineuses pseudosecondaires présentant un rapport r1/r0 compris entre 0,8 et 1,2, r1 représentant le facteur de forme de la section verticale, par rapport à l'axe optique, de chaque lentille barreau, et r0 représentant le facteur de forme d'une zone (21) à éclairer, et une lentille condensatrice pour combiner les faisceaux lumineux provenant des sources de lumière pseudosecondaire produites par l'intégrateur et éclairer la zone présentant un motif devant être exposé ; et à un système optique de projection pour projeter la lumière transmise ou reflétée par le motif, éclairé par le système d'éclairement et devant être exposé, sur la zone de l'objet à exposer, afin d'exposer la zone à cette lumière. Un procédé d'exposition est également décrit.
(JA)本発明は、分離した複数の光源を1次元若しくは2次元に配列した光源アレーと該光源アレーの各光源から出射した光を集光させる集光光学系と該集光光学系で集光された光を空間的に分解して多数の擬似2次光源を生成する、多数のロッドレンズの配列からなり、各ロッドレンズの光軸に垂直な断面形状の縦横比r1と上記被照明領域21の縦横比r0の比r1/r0が0.8以上1.2以下である光インテグレータと該光インテグレータによって生成された多数の擬似2次光源からの光を重ね合わせて露光すべきパターンを有する被照明領域に照明するコンデンサレンズとを有する照明光学系と、該照明光学系で照明された露光すべきパターンを透過もしくは反射した光を被露光物上の被露光領域に投影露光する投影光学系とを備えたことを特徴とする露光装置およびその方法である。
指定国: CN, KR, US.
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, RO, SE, SI, SK, TR).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)