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1. (WO2004003666) パターン微細化用被覆形成剤およびそれを用いた微細パターンの形成方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2004/003666    国際出願番号:    PCT/JP2003/008156
国際公開日: 08.01.2004 国際出願日: 26.06.2003
IPC:
G03F 7/40 (2006.01)
出願人: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. [JP/JP]; 150, Nakamaruko, Nakahara-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa 211-0012 (JP) (米国を除く全ての指定国).
SUGETA, Yoshiki [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
KANEKO, Fumitake [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
TACHIKAWA, Toshikazu [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: SUGETA, Yoshiki; (JP).
KANEKO, Fumitake; (JP).
TACHIKAWA, Toshikazu; (JP)
代理人: HASEGAWA, Yoko; #403, Horiguchi Bldg., 2-3, Nihombashi Ningyocho 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 103-0013 (JP)
優先権情報:
2002-191055 28.06.2002 JP
2002-191056 28.06.2002 JP
発明の名称: (EN) COATING FORMING AGENT FOR REDUCING PATTERN DIMENSION AND METHOD OF FORMING FINE PATTERN THEREWITH
(FR) AGENT DE FORMATION DE REVETEMENT POUR LA REDUCTION DE LA DIMENSION DE MOTIF ET PROCEDE DE FORMATION DE MOTIF FIN
(JA) パターン微細化用被覆形成剤およびそれを用いた微細パターンの形成方法
要約: front page image
(EN)A coating forming agent for reducing pattern dimension, used to form a fine pattern through coating a substrate having a photoresist pattern, reducing photoresist pattern spacings by the thermal shrinkage action thereof and thereafter substantially completely removing the coating. In particular, a coating forming agent for reducing pattern dimension which comprises a water-soluble polymer and a monomer having an amido group, or a coating forming agent for reducing pattern dimension which comprises a water-soluble polymer containing at least (meth)acrylamide as a constituent monomer; and a method of forming a fine pattern with the use of either of the coating forming agents for reducing pattern dimension. These coating forming agents for reducing pattern dimension enable strikingly enhancing the thermal shrinkage factor thereof at heating treatment and thus enable obtaining a fine pattern of desirable profile having properties as demanded for contemporary semiconductor devices.
(FR)L'invention concerne un agent de formation de revêtement permettant de diminuer la dimension de motif. Cet agent est utilisé pour former un motif fin par le biais d'un processus consistant à revêtir un substrat doté d'un motif à photorésine, à réduire des espacements de motifs à photorésine par l'action correspondante d'un rétrécissement thermique, et à recouvrir pratiquement complètement le revêtement. Notamment, cette invention a pour objet un agent de formation de revêtement qui permet de diminuer la dimension d'un motif et qui renferme un polymère soluble dans l'eau et un monomère possédant un groupe amido ou un agent de formation de revêtement servant à diminuer la dimension d'un motif et renfermant un polymère soluble dans l'eau contenant au moins un méthacrylamide comme monomère constituant, et un procédé de formation d'un motif fin au moyen des agents de formation de revêtement pour la réduction de la dimension de motif. Ces agents de formation de revêtement servant à la diminution de motif permettent d'améliorer le facteur de rétrécissement thermique correspondant au cours du traitement thermique et, donc, d'obtenir un motif fin de profil souhaitable ayant des propriétés requises pour des dispositifs semi-conducteurs actuels.
(JA)ホトレジストパターンを有する基板上に被覆され、その熱収縮作用を利用してホトレジストパターン間隔を狭小せしめた後、当該被覆を実質的に完全に除去して微細パターンを形成するために使用されるパターン微細化用被覆形成剤であって、水溶性ポリマーとアミド基含有モノマーを含むパターン微細化用被覆形成剤、あるいは、少なくとも(メタ)アクリルアミドを構成モノマーとして含む水溶性ポリマーを含有するパターン微細化用被覆形成剤、および、これらいずれかのパターン微細化用被覆形成剤を用いた微細パターンの形成方法を開示する。本発明により、加熱処理時におけるパターン微細化用被覆形成剤の熱収縮率を格段に向上させ、良好なプロフィルおよび現在の半導体デバイスにおける要求特性を備えた微細パターンを得ることができる。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)