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1. (WO1991018414) SINGLE WAFER PROCESSOR APPARATUS
国際事務局に記録されている最新の書誌情報

国際公開番号: WO/1991/018414 国際出願番号: PCT/US1991/002817
国際公開日: 28.11.1991 国際出願日: 24.04.1991
予備審査請求日: 06.12.1991
IPC:
G11B 7/26 (2006.01) ,H01L 21/00 (2006.01) ,H01L 21/687 (2006.01)
G 物理学
11
情報記憶
B
記録担体と変換器との間の相対運動に基づいた情報記録
7
光学的手段による記録または再生,例.光ビームの照射による記録,低パワー光ビームを用いる再生;そのための記録担体
24
形状、構造または物性によって、または材料の選定によって特徴づけられる記録担体
26
記録担体の製造に特に適した方法または装置
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
67
製造または処理中の半導体または電気的固体装置の取扱いに特に適用される装置;半導体または電気的固体装置もしくは構成部品の製造または処理中のウエハの取扱いに特に適用される装置
683
支持または把持のためのもの
687
機械的手段を使用するもの,例.チャック,クランプ,またはピンチ
出願人:
SEMITOOL, INC. [US/US]; 655 W. Reserve Drive Kalispell, MT 59901, US
発明者:
THOMPSON, Raymon, F.; US
OWCZARZ, Aleksander; US
代理人:
ST. JOHN, Richard, J. ; West 601 Main Avenue Suite 815 Spokane, WA 99201-0679, US
優先権情報:
526,24318.05.1990US
発明の名称: (EN) SINGLE WAFER PROCESSOR APPARATUS
(FR) APPAREIL DE TRAITEMENT DE TRANCHES INDIVIDUELLES
要約:
(EN) A single wafer processing apparatus includes a portable processing head that can be a portable module or a movable unit mounted to a supporting machine frame. The processing head has movable fingers adapted to grip a wafer. The fingers protrude from a protective wafer plate. Indexing and rotation monitoring assemblies are provided for automation of the wafer processing steps. A complementary processing base includes an upwardly-open bowl that receives a wafer held by the portable processing head. It has a full-diameter movable bottom wall for rapid draining purposes. Liquid and/or gas jets and nozzles supply fluids required within the bowl for processing of wafers.
(FR) Un appareil de traitement de tranches individuelles comprend une tête de traitement portative pouvant être un module portatif ou une unité portative montée sur un cadre de machine de support. La tête de traitement comporte des doigts mobiles adaptés pour saisir une tranche. Les doigts dépassent d'une plaque protectrice de tranche. Des ensembles de contrôle d'indexage et de rotation se chargent de l'automatisation des étapes de traitement de la tranche. Une base de traitement complémentaire comprend une cuvette ouverte vers le haut recevant une tranche maintenue par la tête de traitement portative. Elle présente une paroi inférieure mobile de diamètre total utilisée à des fins de drainage rapide. Des jets et des ajutages de liquide et/ou de gaz acheminent les fluides nécessaires à l'intérieur de la cuvette afin de traiter les tranches.
指定国: AT, AU, BB, BG, BR, CA, CH, DE, DK, ES, FI, GB, HU, JP, KP, KR, LK, LU, MC, MG, MW, NL, NO, PL, RO, SD, SE, SU
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, CH, DE, DK, ES, FR, GB, GR, IT, LU, NL, SE)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CM, GA, ML, MR, SN, TD, TG)
国際公開言語: 英語 (EN)
国際出願言語: 英語 (EN)
Also published as:
EP0530230AU1991077948