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1. US20070001326 - Vaporizer

官庁 アメリカ合衆国
出願番号 10573258
出願日 27.09.2004
公開番号 20070001326
公開日 04.01.2007
公報種別 A1
IPC
B01F 3/04
B処理操作;運輸
01物理的または化学的方法または装置一般
F混合,例.溶解,乳化,分散
3混合される相に従う混合,例.分散,乳化
04気体または蒸気と液体との混合
C23C 16/448
C化学;冶金
23金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法または化学蒸着による被覆一般
16ガス状化合物の分解による化学的被覆であって,表面材料の反応生成物を被覆層中に残さないもの,すなわち化学蒸着(CVD)法
44被覆の方法に特徴のあるもの
448反応性ガス流を発生させるために用いる方法に特徴があるもの,例.先行する材料の蒸発または昇華によるもの
H01L 21/02
H電気
01基本的電気素子
L半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02半導体装置またはその部品の製造または処理
H01L 21/205
H電気
01基本的電気素子
L半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02半導体装置またはその部品の製造または処理
04少なくとも一つの電位障壁または表面障壁,例.PN接合,空乏層,キャリア集中層,を有する装置
18不純物,例.ドーピング材料,を含むまたは含まない周期表第IV族の元素またはA↓I↓I↓IB↓V化合物から成る半導体本体を有する装置
20基板上への半導体材料の析出,例.エピタキシャル成長
205固体を析出させるガス状化合物の還元または分解を用いるもの,すなわち化学的析出を用いるもの
H01L 21/31
H電気
01基本的電気素子
L半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02半導体装置またはその部品の製造または処理
04少なくとも一つの電位障壁または表面障壁,例.PN接合,空乏層,キャリア集中層,を有する装置
18不純物,例.ドーピング材料,を含むまたは含まない周期表第IV族の元素またはA↓I↓I↓IB↓V化合物から成る半導体本体を有する装置
30H01L21/20~H01L21/26に分類されない方法または装置を用いる半導体本体の処理
31半導体本体上への絶縁層の形成,例.マスキング用またはフォトリソグラフィック技術の使用によるもの;これらの層の後処理;これらの層のための材料の選択
出願人 TODA MASAYUKI
KUSUHARA MASAKI
発明者 Toda Masayuki
Kusuhara Masaki
代理人 YOUNG &; THOMPSON
優先権情報 3003335605 26.09.2003 JP
発明の名称
(EN) Vaporizer
要約
(EN)

There is provided a vaporizer in which the path of a reaction tube can be kept long, and vaporization can be promoted evenly by radiation heat from a heater by agitating a carrier gas into which a source solution is dispersed in the direction crossing the passing direction of the gas, the agitation being made by a centrifugal force produced when the gas passes through the reaction tube. A carrier gas into which a source solution consisting of a liquid or powder is dispersed is supplied from the upstream side to a spiral reaction tube 103, and the carrier gas into which the source solution is dispersed and which passes through the reaction tube 103 is vaporized by radiation heat from a heater 104.