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1. US20190393063 - Substrate storing container

官庁
アメリカ合衆国
出願番号 16480519
出願日 27.04.2018
公開番号 20190393063
公開日 26.12.2019
特許番号 11011399
特許付与日 18.05.2021
公報種別 B2
IPC
B65D 85/30
B処理操作;運輸
65運搬;包装;貯蔵;薄板状または線条材料の取扱い
D物品または材料の貯蔵または輸送用の容器,例.袋,樽,びん,箱,缶,カートン,クレート,ドラム缶,広口びん,タンク,ホッパー,運送コンテナ;付属品,閉鎖具,または閉鎖具のための付属品;包装要素;包装体
85特定の物品または材料に特に適合する容器,包装要素または包装体
30衝撃または圧力による損傷に特に鋭敏な物品用
H01L 21/673
H電気
01基本的電気素子
L半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
67製造または処理中の半導体または電気的固体装置の取扱いに特に適用される装置;半導体または電気的固体装置もしくは構成部品の製造または処理中のウエハの取扱いに特に適用される装置
673特に適合するキャリアを使用するもの
G05D 7/01
G物理学
05制御;調整
D非電気的変量の制御または調整系
7流量の制御
01補助動力のないもの
CPC
G05D 7/0186
GPHYSICS
05CONTROLLING; REGULATING
DSYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
7Control of flow
01without auxiliary power
0186without moving parts
H01L 21/67389
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
LSEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
21Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
673using specially adapted carriers ; or holders; Fixing the workpieces on such carriers or holders
6735Closed carriers
67389characterised by atmosphere control
出願人 MIRAIAL CO., LTD.
発明者 Chiaki Matsutori
代理人 Muncy, Geissler, Olds & Lowe, P.C.
優先権情報 PCT/JP2017/017244 02.05.2017 WO
発明の名称
(EN) Substrate storing container
要約
(EN)

A substrate storing container includes a container main body, a lid body removably attached to a container main body opening portion and able to close the container main body opening portion, a ventilation passage which enables a substrate storing space and a space outside the container main body to communicate with each other, a gas ejecting nozzle portion having a plurality of opening portions through which a gas flowing into the ventilation passage is supplied into the substrate storing space, and a gas flow rate uniformizing unit which enables the gas to flow out through the plurality of opening portions at a uniform flow rate.