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1. US20170266675 - Processing nozzle and optical machining apparatus

官庁
アメリカ合衆国
出願番号 15120001
出願日 11.11.2015
公開番号 20170266675
公開日 21.09.2017
特許番号 10065201
特許付与日 04.09.2018
公報種別 B2
IPC
B05B 5/00
B処理操作;運輸
05霧化または噴霧一般;液体または他の流動性材料の表面への適用一般
B霧化装置;噴霧装置;ノズル
5静電噴霧装置;電気的に噴霧を荷電させる手段を有する噴霧装置;他の電気的手段により液体または他の流動性材料を噴霧する装置
B05C 19/00
B処理操作;運輸
05霧化または噴霧一般;液体または他の流動性材料の表面への適用一般
C液体または他の流動性材料を表面に適用する装置一般
19表面に粒状材料を適用するのに特に適した装置
B05B 7/16
B処理操作;運輸
05霧化または噴霧一般;液体または他の流動性材料の表面への適用一般
B霧化装置;噴霧装置;ノズル
72つまたはそれ以上の源から液体または他の流動性材料を放出する噴霧装置,例.源が液体と空気からなるもの,粉体と気体からなるもの
16噴霧される材料を加熱する手段を組み込んだもの
B05B 7/14
B処理操作;運輸
05霧化または噴霧一般;液体または他の流動性材料の表面への適用一般
B霧化装置;噴霧装置;ノズル
72つまたはそれ以上の源から液体または他の流動性材料を放出する噴霧装置,例.源が液体と空気からなるもの,粉体と気体からなるもの
14粒状材料を噴霧するために設計されたもの
B05B 7/22
B処理操作;運輸
05霧化または噴霧一般;液体または他の流動性材料の表面への適用一般
B霧化装置;噴霧装置;ノズル
72つまたはそれ以上の源から液体または他の流動性材料を放出する噴霧装置,例.源が液体と空気からなるもの,粉体と気体からなるもの
16噴霧される材料を加熱する手段を組み込んだもの
22電気的なもの,例.アークによるもの
C23C 26/02
C化学;冶金
23金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法または化学蒸着による被覆一般
26グループC23C2/00~C23C24/00に分類されない被覆
02基板に溶融材料を適用するもの
CPC
B05B 7/14
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
BSPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
7Spraying apparatus for discharge of liquids or other fluent materials from two or more sources, e.g. of liquid and air, of powder and gas
14designed for spraying particulate materials
B05B 7/228
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
BSPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
7Spraying apparatus for discharge of liquids or other fluent materials from two or more sources, e.g. of liquid and air, of powder and gas
16incorporating means for heating ; or cooling; the material to be sprayed
22electrically ; , magnetically or electromagnetically; , e.g. by arc
228using electromagnetic radiation, e.g. laser
B05C 19/00
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
CAPPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
19Apparatus specially adapted for applying particulate materials to surfaces
C23C 24/10
CCHEMISTRY; METALLURGY
23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
24Coating starting from inorganic powder
08by application of heat or pressure and heat
10with intermediate formation of a liquid phase in the layer
C23C 26/02
CCHEMISTRY; METALLURGY
23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
26Coating not provided for in groups C23C2/00 - C23C24/00
02applying molten material to the substrate
出願人 TECHNOLOGY RESEARCH ASSOCIATION FOR FUTURE ADDITIVE MANUFACTURING
発明者 Hiroshi Ohno
Satoshi Tsuno
Yuji Sasaki
代理人 Ladas & Parry LLP
発明の名称
(EN) Processing nozzle and optical machining apparatus
要約
(EN)

A branch location is arranged close to a nozzle, and the channel lengths are the same. A processing nozzle that includes a beam path for passing light from a light source and ejects a fluid containing a processing material from an ejection port includes a supply pipe that is arranged outside the beam path through which the light passes, and supplies the fluid, and a first branch pipe and a second branch pipe that supply the fluid from the supply pipe to the ejection port, and have the same total length. The first branch pipe includes a first bent portion having a first shape on an upstream side of the fluid, and a second bent portion having a second shape on a downstream side of the fluid, and the second branch pipe includes a third bent portion having the first shape on the upstream side of the fluid, and a fourth bent portion having the second shape on the downstream side of the fluid.