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1. (US20160232932) VACUUM PROCESS APPARATUS AND VACUUM PROCESS METHOD

官庁 : アメリカ合衆国
出願番号: 15131084 出願日: 18.04.2016
公開番号: 20160232932 公開日: 11.08.2016
公報種別: A1
IPC:
G11B 5/84
C23C 14/24
G 物理学
11
情報記憶
B
記録担体と変換器との間の相対運動に基づいた情報記録
5
記録担体の磁化または減磁による記録;磁気的手段による再生;そのための記録担体
84
記録担体の製造に特に適合する方法または装置
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
14
被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
22
被覆の方法に特徴のあるもの
24
真空蒸着
CPC:
G11B 5/8408
C23C 14/24
出願人: CANON ANELVA CORPORATION
発明者: Hiroshi YAKUSHIJI
Masahiro SHIBAMOTO
優先権情報: 2014-041685 04.03.2014 JP
発明の名称: (EN) VACUUM PROCESS APPARATUS AND VACUUM PROCESS METHOD
要約:
(EN)

A vacuum process method for a magnetic recording medium having a surface protective layer for protecting a magnetic recording layer formed on a substrate includes a ta-C film forming step of forming a ta-C film on the magnetic recording layer, a transportation step of transporting a substrate on which the ta-C film is formed, a radical generation step of generating radicals by exciting a process gas, and a radical process step of irradiating a surface of the ta-C film with the radicals.


Also published as:
SG11201603358PWO/2015/132830