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1. (SG11201603358P) VACUUM PROCESS APPARATUS AND VACUUM PROCESS METHOD

官庁 : シンガポール
出願番号: 11201603358P 出願日: 21.11.2014
公開番号: 11201603358P 公開日: 29.09.2016
公報種別: A1
(国内移行後) 元 PCT 国際出願 出願番号:PCTJP2014005862 ; 公開番号:2015132830 クリックしてデータを表示
IPC:
C23C 14/58
G11B 5/84
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
14
被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
58
後処理
G 物理学
11
情報記憶
B
記録担体と変換器との間の相対運動に基づいた情報記録
5
記録担体の磁化または減磁による記録;磁気的手段による再生;そのための記録担体
84
記録担体の製造に特に適合する方法または装置
CPC:
G11B 5/8408
C23C 14/0605
C23C 14/24
C23C 14/325
出願人: CANON ANELVA CORPORATION
発明者: YAKUSHIJI, Hiroshi
SHIBAMOTO, Masahiro
優先権情報: 2014-041685 04.03.2014 JP
発明の名称: (EN) VACUUM PROCESS APPARATUS AND VACUUM PROCESS METHOD
要約:
(EN) P215-0112WO - 33 - ABSTRACT A vacuum process method for a magnetic recording medium having a surface protective layer for protecting a magnetic recording layer formed on a substrate includes a ta-C film forming step of forming a ta-C film on the magnetic recording layer, a transportation step of transporting a substrate on which the ta-C film is formed, a radical generation step of generating radicals by exciting a process gas, and a radical process step of irradiating a surface of the ta-C film with the radicals.
Also published as:
US20160232932WO/2015/132830