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1. KR1020070063505 - EXPOSURE DEVICE AND DEVICE MANUFACTURING METHOD

官庁 大韓民国
出願番号 1020077004818
出願日 27.02.2007
公開番号 1020070063505
公開日 19.06.2007
公報種別 A
IPC
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
20
露光;そのための装置
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02
半導体装置またはその部品の製造または処理
027
その後のフォトリソグラフィック工程のために半導体本体にマスクするもので,グループ21/18または21/34に分類されないもの
G 物理学
01
測定;試験
B
長さ,厚さまたは同種の直線寸法の測定;角度の測定;面積の測定;表面または輪郭の不規則性の測定
11
光学的手段の使用によって特徴づけられた測定装置
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
67
製造または処理中の半導体または電気的固体装置の取扱いに特に適用される装置;半導体または電気的固体装置もしくは構成部品の製造または処理中のウエハの取扱いに特に適用される装置
68
位置決め,方向決め,または整列のためのもの
G03F 7/20
H01L 21/027
G01B 11/00
H01L 21/68
CPC
G03F 7/70775
G03F 7/70666
G03F 7/70716
G03F 7/7085
H01L 21/67259
H01L 23/544
出願人 NIKON CORPORATION
가부시키가이샤 니콘
発明者 ARAI DAI
아라이 다이
代理人 김창세
優先権情報 JP-P-2004-00296375 08.10.2004 JP
発明の名称
(EN) EXPOSURE DEVICE AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
(KO) 노광 장치 및 디바이스 제조 방법
要約
(EN)

There are provided an exposure device including a measurement stage having various measurement devices arranged so as not to reduce the measurement accuracy and a device manufacturing method using the exposure device. The exposure device has a measurement stage provided independently of a wafer state for holding a wafer. A measurement table (MTB) held on the upper surface of the measurement stage includes a reference plate (53) having a first reference mark (FM1) used by a space image measurement device and a second reference mark (FM2) for measuring the positional relationship of the wafer stage with respect to the reticle pattern projected image. The reference plate (53) and the space image measurement device are arranged in the vicinity of a reflection plane (51X) where the beam from the X-axis interferometer is projected and a reflection plane (50) where the beam from the Y-axis interferometer is projected.

© KIPO & WIPO 2007

(KO)
계측 정밀도의 저하를 초래하지 않는 관계로 배치된 각종 계측기가 마련된 계측 스테이지를 구비하는 노광 장치 및 상기 노광 장치를 이용한 디바이스 제조 방법을 제공한다. 본 발명의 노광 장치는, 웨이퍼를 유지하는 웨이퍼 스테이지와는 독립적으로 마련된 계측 스테이지를 구비한다. 이 계측 스테이지의 상면에 유지된 계측 테이블(MTB)에는, 공간상 계측 장치에서 이용되는 제 1 기준 마크(FM1)와, 레티클의 패턴의 투영상에 대한 웨이퍼 스테이지의 위치 관계를 계측하기 위한 제 2 기준 마크(FM2)가 형성된 기준판(53)이 마련되어 있다. 이 기준판(53) 및 공간상 계측 장치는, X축 간섭계로부터의 비임이 투사되는 반사면(51X) 및 Y축 간섭계로부터의 비임이 투사되는 반사면(50)의 근방에 배치된다.