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1. KR1020060066109 - VAPORIZER

官庁 大韓民国
出願番号 1020067003601
出願日 21.02.2006
公開番号 1020060066109
公開日 15.06.2006
公報種別 A
IPC
H01L 21/205
H電気
01基本的電気素子
L半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02半導体装置またはその部品の製造または処理
04少なくとも一つの電位障壁または表面障壁,例.PN接合,空乏層,キャリア集中層,を有する装置
18不純物,例.ドーピング材料,を含むまたは含まない周期表第IV族の元素またはA↓I↓I↓IB↓V化合物から成る半導体本体を有する装置
20基板上への半導体材料の析出,例.エピタキシャル成長
205固体を析出させるガス状化合物の還元または分解を用いるもの,すなわち化学的析出を用いるもの
H01L 21/31
H電気
01基本的電気素子
L半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02半導体装置またはその部品の製造または処理
04少なくとも一つの電位障壁または表面障壁,例.PN接合,空乏層,キャリア集中層,を有する装置
18不純物,例.ドーピング材料,を含むまたは含まない周期表第IV族の元素またはA↓I↓I↓IB↓V化合物から成る半導体本体を有する装置
30H01L21/20~H01L21/26に分類されない方法または装置を用いる半導体本体の処理
31半導体本体上への絶縁層の形成,例.マスキング用またはフォトリソグラフィック技術の使用によるもの;これらの層の後処理;これらの層のための材料の選択
H01L 21/02
H電気
01基本的電気素子
L半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02半導体装置またはその部品の製造または処理
CPC
C23C 16/4481
CCHEMISTRY; METALLURGY
23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
16Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
44characterised by the method of coating
448characterised by the method used for generating reactive gas streams, e.g. by evaporation or sublimation of precursor materials
4481by evaporation using carrier gas in contact with the source material
出願人 KABUSHIKI KAISHA WATANABE SHOKO
TODA MASAYUKI
가부시키가이샤 와타나베 쇼코
도다 마사유키
発明者 TODA MASAYUKI
도다 마사유키
KUSUHARA MASAKI
구스하라 마사키
代理人 특허법인코리아나
優先権情報 2003335605 26.09.2003 JP
発明の名称
(EN) VAPORIZER
(KO) 기화기
要約
(EN)

A vaporizer where a reaction tube can have a long path and where vaporization is thoroughly promoted by radiant heat from a heater. The promotion of the vaporization occurs when a carrier gas where a source material solution is dispersed is agitated in the direction crossing the passing direction of the gas, the agitation being made by a centrifugal force produced when the gas passes through the reaction tube. A carrier gas in which a solution of a liquid or powder source material is dispersed is supplied from the upstream side to a spiral reaction tube (103), and the carrier gas, where the source material solution is dispersed, passes through in the reaction tube (103) is vaporized by radiant heat from a heater (104).

© KIPO & WIPO 2007

(KO)
반응관의 경로를 길게 확보할 수 있는데다가, 그 내부를 통과할 때 발생하는 원심력에 의해 원료 용액을 분산한 캐리어가스가 통과방향과 교차하는 방향으로 교반됨으로써 빈틈없이 히터로부터의 복사열에 의한 기화를 촉진할 수 있는 기화기를 제공한다.