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1. (KR1020100005058) PROCESS FOR PRODUCING MAGNETIC ELEMENT

官庁 : 大韓民国
出願番号: 1020097020323 出願日: 30.03.2007
公開番号: 1020100005058 公開日: 13.01.2010
公報種別: A
IPC:
G11C 11/15
H01L 43/12
G 物理学
11
情報記憶
C
静的記憶
11
特定の電気的または磁気的記憶素子の使用によって特徴づけられたデジタル記憶装置;そのための記憶素子
02
磁気的素子を用いるもの
14
薄膜素子を用いるもの
15
多層の磁性層を用いるもの
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
43
電流磁気効果またはこれに類似な磁気効果を利用した装置;それらの装置またはその部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
12
これらの装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
CPC:
C23F 4/00
B82Y 10/00
B82Y 25/00
B82Y 40/00
G11B 5/3163
G11B 5/3906
G11B 5/3909
H01F 10/3254
H01F 41/308
H01L 43/08
H01L 43/12
出願人: CANON ANELVA CORPORATION
캐논 아네르바 가부시키가이샤
発明者: KODAIRA YOSHIMITSU
코다이라 요시미츠
OSADA TOMOAKI
오사다 토모아키
代理人: 김용인
박영복
優先権情報:
発明の名称: (EN) PROCESS FOR PRODUCING MAGNETIC ELEMENT
(KO) 자성소자 제조방법
要約: front page image
(EN) A magnetic film is etched in a plasma atmosphere using a non-organic film mask to produce a magnetic element. The plasma atmosphere is formed from at least one gasifying compound selected from the group consisting of ethers, aldehydes, carboxylic acids, esters, and diones. A magnetic film or diamagnetic film containing at least one metal selected from the group consisting of the elements in Groups 8, 9, and 10 of the Periodic Table is etched using a non-organic-material mask in the plasma atmosphere. At least one gas selected from the group consisting of oxygen, ozone, nitrogen, H COPYRIGHT KIPO WIPO 2010
(KO) 자성소자는 마스크로서 비유기막을 이용한 플라즈마 분위기속에서 자성막을 에칭함으로써 제조된다. 플라즈마 분위기는 에테르, 알데히드, 카르복실산, 에스테르 및 디온으로 구성된 가스화 화합물 중 적어도 한 종류를 이용해 발생되고, 플라즈마 분위기하에서 비유기재료 마스크를 이용해, 주기율표에서 Ⅷ족, Ⅸ족, 및 Ⅹ족으로 구성된 금속 그룹으로부터 선택된 금속 중 한 종류를 포함하는 자성막 또는 반자성막을 에칭하는 단계가 수행된다. 플라즈마 분위기의 가스로서, 산소, 오존, 질소, HO, NO, NO, 및 CO로 구성된 가스 그룹으로부터 선택된 가스 중 적어도 한 종류를 상기 가스화 화합물에 첨가할 수 있다. 에칭속도와 에칭비는 양호하였다. 2 2 2 2
また、:
US20100044340CN101641807WO/2008/129605