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1. KR1020200010579 - 증착 마스크의 제조 방법, 표시 장치의 제조 방법, 및 증착 마스크

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官庁
大韓民国
出願番号 1020207001497
出願日 13.09.2018
公開番号 1020200010579
公開日 30.01.2020
特許番号 102153870
特許付与日 09.09.2020
公報種別 B1
IPC
C23C 14/04
C化学;冶金
23金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法または化学蒸着による被覆一般
14被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
04選択された表面部分の被覆,例.マスクを用いるもの
C23F 1/28
C化学;冶金
23金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
F機械方法によらない表面からの金属質材料の除去;金属質材料の防食;鉱皮の抑制一般;少なくとも一工程はクラスC23に分類され,少なくとも一工程はサブクラスC21DもしくはC22FまたはクラスC25に包含される金属質材料の表面処理の多段階工程
1化学的手段による金属質材料のエッチング
10エッチング組成物
14水溶液組成物
16酸性組成物
28鉄族金属をエッチングするためのもの
H01L 51/00
H電気
01基本的電気素子
L半導体装置,他に属さない電気的固体装置
51能動部分として有機材料を用い,または能動部分として有機材料と他の材料との組み合わせを用いる固体装置;このような装置またはその部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
CPC
C23C 14/042
CCHEMISTRY; METALLURGY
23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
14Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
04Coating on selected surface areas, e.g. using masks
042using masks
C23F 1/28
CCHEMISTRY; METALLURGY
23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
FNON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE
1Etching metallic material by chemical means
10Etching compositions
14Aqueous compositions
16Acidic compositions
28for etching iron group metals
H01L 51/0011
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
LSEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
51Solid state devices using organic materials as the active part, or using a combination of organic materials with other materials as the active part; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of such devices, or of parts thereof
0001Processes specially adapted for the manufacture or treatment of devices or of parts thereof
0002Deposition of organic semiconductor materials on a substrate
0008using physical deposition, e.g. sublimation, sputtering
0011selective deposition, e.g. using a mask
出願人 도판 인사츠 가부시키가이샤
発明者 사토 슌스케
데라다 레이지
미카미 나오코
代理人 특허법인코리아나
優先権情報 JP-P-2017-178223 15.09.2017 JP
発明の名称
(KO) 증착 마스크의 제조 방법, 표시 장치의 제조 방법, 및 증착 마스크
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要約
(KO) 철-니켈계 합금제의 금속판과 유리 기판 사이에 수지층을 끼우고, 수지층을 개재하여 금속판을 유리 기판에 접합하는 것, 금속판으로부터 복수의 마스크 구멍을 포함하는 마스크부를 형성하는 것, 마스크부보다 높은 강성을 갖고, 또한 마스크부가 포함하는 복수의 마스크 구멍을 둘러싸는 프레임상을 갖는 마스크 프레임에, 마스크부 중에서 수지층에 접하는 면과는 반대측의 면을 접합하는 것, 및 마스크부로부터, 수지층 및 유리 기판을 박리하는 것을 포함한다.
関連特許文献
JPWO2019054462
CN111032902
WO/2019/054462
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JP2020109214
US20220042160
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