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1. KR1020180084797 - 기판 액 처리 장치, 기판 액 처리 방법 및 기억 매체

官庁 大韓民国
出願番号 1020187014055
出願日 17.11.2016
公開番号 1020180084797
公開日 25.07.2018
公報種別 A
IPC
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
67
製造または処理中の半導体または電気的固体装置の取扱いに特に適用される装置;半導体または電気的固体装置もしくは構成部品の製造または処理中のウエハの取扱いに特に適用される装置
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02
半導体装置またはその部品の製造または処理
H01L 21/67
H01L 21/02
CPC
H01L 21/67051
H01L 21/02052
H01L 21/6715
H01L 21/67253
出願人 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
発明者 코사이 카즈키
가이 요시히로
고시 겐타로
코미야 히로시
후지모토 세이야
오츠카 타카히사
代理人 특허법인엠에이피에스
優先権情報 JP-P-2015-228833 24.11.2015 JP
発明の名称
(KO) 기판 액 처리 장치, 기판 액 처리 방법 및 기억 매체
要約
(KO)
기판 처리 장치는, 기판(W)을 유지하는 기판 유지부(31)와, 기판 유지부에 의해 유지된 기판의 외주연보다 외측의 위치로부터, 기판의 표면의 적어도 중심부가 토출된 처리액의 액막에 의해 덮이도록, 기판의 표면을 향하여 처리액을 토출하는 외측 노즐(45)과, 외측 노즐의 높이 위치 또는 토출 각도를 변경할 수 있는 액추에이터(46, 90)를 구비한다.