(KO) 후방 산란 전자 회절법을 사용하여 타깃의 스퍼터면에 대하여 수직의 단면인 압연면 법선 방향 : ND 를 관찰하였을 때, {111} 면이 ND 로 배향하고 있는 결정립의 면적률이 35 ％ 이상인 탄탈 스퍼터링 타깃. 본 발명은, 하이 파워 스퍼터 상황하에 있어서, 스퍼터 물질의 직진성을 증대시킴으로써, 웨이퍼면 상에 스퍼터 물질을 균일하게 성막하는 것이 가능한 탄탈 스퍼터링 타깃을 제공하는 것을 과제로 한다. 이와 같은 탄탈 타깃을 사용하여 스퍼터한 경우, 미세 배선에 있어서도, 막두께의 균일성과 성막의 스루풋을 향상시킬 수 있다.
