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1. KR1020150113115 - 적외선 반사 필름의 제조 방법

官庁
大韓民国
出願番号 1020157023409
出願日 30.01.2014
公開番号 1020150113115
公開日 07.10.2015
公報種別 A
IPC
C23C 14/34
C化学;冶金
23金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法または化学蒸着による被覆一般
14被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
22被覆の方法に特徴のあるもの
34スパッタリング
B32B 37/24
B処理操作;運輸
32積層体
B積層体,すなわち平らなまたは平らでない形状,例.細胞状またはハニカム状,の層から組立てられた製品
37積層の方法または装置,例.硬化結合または超音波結合によるもの
14層の性質に特徴のあるもの
24少なくとも1つの,積層前に予め形成されていない層を有するもの,例.素材上に撒かれた顆粒状の物質から作られたもの
B32B 38/00
B処理操作;運輸
32積層体
B積層体,すなわち平らなまたは平らでない形状,例.細胞状またはハニカム状,の層から組立てられた製品
38積層過程に伴う付随的操作
C23C 14/08
C化学;冶金
23金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法または化学蒸着による被覆一般
14被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
06被覆材料に特徴のあるもの
08酸化物
G02B 5/26
G物理学
02光学
B光学要素,光学系,または光学装置
5レンズ以外の光学要素
20フィルター
26反射フィルター
G02B 5/28
G物理学
02光学
B光学要素,光学系,または光学装置
5レンズ以外の光学要素
20フィルター
28干渉フィルター
CPC
H01J 37/3429
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
32Gas-filled discharge tubes, ; e.g. for surface treatment of objects such as coating, plating, etching, sterilising or bringing about chemical reactions
34operating with cathodic sputtering
3411Constructional aspects of the reactor
3414Targets
3426Material
3429Plural materials
B29L2011/0083
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
LINDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS B29C, RELATING TO PARTICULAR ARTICLES
2011Optical elements, e.g. lenses, prisms
0083Reflectors
B32B 38/0008
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
32LAYERED PRODUCTS
BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
38Ancillary operations in connection with laminating processes
0008Electrical discharge treatment, e.g. corona, plasma treatment; wave energy or particle radiation
B32B2037/243
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
32LAYERED PRODUCTS
BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
37Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding
14characterised by the properties of the layers
24with at least one layer not being coherent before laminating, e.g. made up from granular material sprinkled onto a substrate
243Coating
B32B2038/0092
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
32LAYERED PRODUCTS
BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
38Ancillary operations in connection with laminating processes
0052Other operations not otherwise provided for
0092Metallizing
B32B2309/02
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
32LAYERED PRODUCTS
BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
2309Parameters for the laminating or treatment process; Apparatus details
02Temperature
出願人 닛토덴코 가부시키가이샤
発明者 와타나베 마사히코
오모리 유타카
代理人 특허법인코리아나
優先権情報 JP-P-2013-016633 31.01.2013 JP
2014008874 21.01.2014 JP
発明の名称
(KO) 적외선 반사 필름의 제조 방법
要約
(KO)
적외선 반사 필름 (100) 은, 투명 필름 기재 (10) 상에 금속층 (25) 및 금속 산화물층 (21, 22) 을 갖는 적외선 반사층 (20) 과 투명 보호층 (30) 을 이 순서로 구비한다. 본 발명의 제조 방법에서는, 금속 산화물층이 권취식 스퍼터 장치를 사용하는 직류 스퍼터법에 의해 제막된다. 직류 스퍼터법에 사용되는 스퍼터 타깃은 아연 원자 및 주석 원자를 함유한다. 스퍼터 타깃은 산화아연과 산화주석 중 적어도 일방의 금속 산화물과 금속 분말이 소결된 타깃인 것이 바람직하다.