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1. (KR1020150013483) 미립자 오염 측정 방법 및 장치

官庁 : 大韓民国
出願番号: 1020147030594 出願日: 28.03.2013
公開番号: 1020150013483 公開日: 05.02.2015
公報種別: A
(国内移行後) 元 PCT 国際出願 出願番号:PCTEP2013056794 ; 公開番号:WO2013149961 クリックしてデータを表示
IPC:
H01L 21/027
G03F 7/20
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02
半導体装置またはその部品の製造または処理
027
その後のフォトリソグラフィック工程のために半導体本体にマスクするもので,グループ21/18または21/34に分類されないもの
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
20
露光;そのための装置
CPC:
H01L 21/0274
G03F 7/20
H01L 22/30
出願人: 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.
티엔오
発明者: 데 용, 안토니우스
반 데르 동크, 약퀴스
代理人: 특허법인(유)화우
優先権情報: 61/619,209 02.04.2012 US
発明の名称: (KO) 미립자 오염 측정 방법 및 장치
要約:
(KO) 미립자 오염 측정 방법 및 장치가 개시된다. 상기 방법은, 예를 들어 측정될 표면(7)에 대해 폴리우레탄 엘라스토머(2)의 측정 표면(5)을 가압하는 단계, 잔여물을 남기지 않고 상기 표면으로부터 폴리우레탄 엘라스토머를 제거하는 단계, 이후 광학 장치(11)를 이용하여, 상기 표면으로부터 폴리우레탄 엘라스토머에 의해 제거되었고 폴리우레탄 엘라스토머에 부착된 입자들(8)을 검출하는 단계를 포함한다.
Also published as:
EP2834709US20150055127CN104204954JP6282260JP2015517101WO/2013/149961