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1. JP2020081981 - プラズマを用いた処理装置及びその処理装置を用いて水素発生材料を製造する製造方法

官庁 日本
出願番号 2018221328
出願日 27.11.2018
公開番号 2020081981
公開日 04.06.2020
公報種別 A
IPC
B01J 19/08
B処理操作;運輸
01物理的または化学的方法または装置一般
J化学的または物理的方法,例.触媒またはコロイド化学;それらの関連装置
19化学的,物理的または物理化学的プロセス一般;それらに関連した装置
08電気または波動エネルギーあるいは粒子線放射を直接適用したプロセス;そのための装置
C01B 3/06
C化学;冶金
01無機化学
B非金属元素;その化合物
3水素;水素を含有する混合ガス;水素を含有する混合物からのそれの分離;水素の精製
02水素または水素含有混合ガスの製造
06エレクトロポジティブに結合した水素を含有する無機化合物,例.水,酸,塩基,アンモニア,と無機還元剤との反応によるもの
C01B 6/04
C化学;冶金
01無機化学
B非金属元素;その化合物
6金属の水素化物;モノボランまたはジボラン;その付加錯化合物
04アルカリ金属,アルカリ土類金属,ベリリウムまたはマグネシウムの水素化物;それらの付加錯化合物
H05H 1/46
H電気
05他に分類されない電気技術
Hプラズマ技術;加速された荷電粒子のまたは中性子の発生;中性分子または原子ビームの発生または加速
1プラズマの生成;プラズマの取扱い
24プラズマの発生
46電磁界を用いるもの,例.高周波またはマイクロ波エネルギー
出願人 株式会社エスイー
発明者 滝沢 力
白根 崇
森元 峯夫
坂本 雄一
代理人 坂本 智弘
発明の名称
(JA) プラズマを用いた処理装置及びその処理装置を用いて水素発生材料を製造する製造方法
要約
(JA)

【課題】例えば、水素化マグネシウムを含む水素発生材料を比較的低温なプロセスで製造するのに適したプラズマを用いた処理装置を提供する。
【解決手段】本発明のプラズマを用いた処理装置10は、原料にプラズマを照射する処理室11と、プラズマ中に原料を浮遊状態で供給する原料供給部12と、プラズマ化して原料に反応させる反応性ガスを供給するガス供給部13と、プラズマを生成させるためのマイクロ波を供給するマイクロ波供給部14と、処理室11に導入するマイクロ波を通す誘電体の窓15と、を備え、マイクロ波供給部14は、少なくとも窓15を通して処理室11内に供給されるマイクロ波のマイクロ波電力のピーク値が2.0キロワット以上となるマイクロ波を発生する。
【選択図】図1

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