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1. JP2020086083 - 光酸発生剤及びフォトリソグラフィー用樹脂組成物

官庁 日本
出願番号 2018219017
出願日 22.11.2018
公開番号 2020086083
公開日 04.06.2020
公報種別 A
IPC
G03F 7/004
G物理学
03写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
Fフォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004感光材料
C09K 3/00
C化学;冶金
09染料;ペイント;つや出し剤;天然樹脂;接着剤;他に分類されない組成物;他に分類されない材料の応用
K他に分類されない応用される物質;他に分類されない物質の応用
3物質であって,他に分類されないもの
G03F 7/039
G物理学
03写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
Fフォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004感光材料
039光分解可能な高分子化合物,例.ポジ型電子レジスト
C07D 221/14
C化学;冶金
07有機化学
D複素環式化合物(高分子化合物C08)
221異項原子として1個の窒素原子のみを有する6員環の複素環式化合物であって,グループC07D211/00~C07D219/00までに属さないもの
02炭素環または炭素環系と縮合しているもの
04オルソ―またはペリ―縮合環系
063個の環からなる環系
14アザ―フェナレン,例.1,8―ナフタルイミド
出願人 サンアプロ株式会社
発明者 柴垣 智幸
代理人 林 博史
発明の名称
(JA) 光酸発生剤及びフォトリソグラフィー用樹脂組成物
要約
(JA)

【課題】i線に高い光感度を有し、レジスト溶液への相溶性及び溶解性に優れ、また耐熱安定性に優れる非イオン系光酸発生剤を提供する。
【解決手段】下記一般式(1)光酸発生剤(A)。

【選択図】なし

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