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1. JPWO2020250300 - 表面に微細凹凸構造を備えたプラスチック素子の製造方法

官庁
日本
出願番号 2019551410
出願日 11.06.2019
公開番号 WO2020250300
公開日 08.11.2019
特許番号 6611113
特許付与日 08.11.2019
公報種別 B1
IPC
B29C 59/00
B処理操作;運輸
29プラスチックの加工;可塑状態の物質の加工一般
Cプラスチックの成形または接合;他に分類されない可塑状態の材料の成形;成形品の後処理,例.補修
59表面成形,例.エンボス;そのための装置
C08J 7/00
C化学;冶金
08有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
J仕上げ;一般的混合方法;サブクラスC08B,C08C,C08F,C08GまたはC08Hに包含されない後処理(プラスチックの加工,例.成形B29)
7高分子物質から製造された成形体の処理または被覆
CPC
B29C 59/00
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
CSHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
59Surface shaping ; of articles; , e.g. embossing; Apparatus therefor
C08J 7/00
CCHEMISTRY; METALLURGY
08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G
7Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
出願人 ナルックス株式会社
発明者 谷邊 健志
山本 和也
代理人 伏見 直哉
発明の名称
(JA) 表面に微細凹凸構造を備えたプラスチック素子の製造方法
要約
(JA)

反応性イオンエッチングプロセスにより、所望のピッチ及び所望の値の深さの微細凹凸構造をプラスチック素子の表面に直接生成することのできる表面に微細凹凸構造を備えたプラスチック素子の製造方法を提供する。表面に微細凹凸構造を備えたプラスチック素子の製造方法であって、第1のガスの雰囲気の反応性イオンエッチングによって該プラスチック素子の表面に0.05マイクロメータから1マイクロメータの範囲の所定の値の平均ピッチの微細凹凸構造を生成する第1のステップと、該第1のガスの該プラスチック素子に対する反応性よりも該プラスチック素子に対する反応性が低い第2のガスの雰囲気における反応性イオンエッチングによって平均ピッチの該所定の値をほぼ維持しながら該微細凹凸構造の平均深さを0.15マイクロメータから1.5マイクロメータの範囲の所定の値とする第2のステップと、を含む。


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