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1. JP2014167162 - 赤外線反射フィルムの製造方法

官庁
日本
出願番号 2014008874
出願日 21.01.2014
公開番号 2014167162
公開日 11.09.2014
公報種別 A
IPC
C23C 14/34
C化学;冶金
23金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法または化学蒸着による被覆一般
14被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
22被覆の方法に特徴のあるもの
34スパッタリング
B32B 9/00
B処理操作;運輸
32積層体
B積層体,すなわち平らなまたは平らでない形状,例.細胞状またはハニカム状,の層から組立てられた製品
9本質的にグループB32B11/00~B32B29/00に包含されない特殊な物質からなる積層体
B32B 15/04
B処理操作;運輸
32積層体
B積層体,すなわち平らなまたは平らでない形状,例.細胞状またはハニカム状,の層から組立てられた製品
15本質的に金属からなる積層体
04層の主なまたは唯一の構成要素が金属からなり,特定物質の他の層に隣接したもの
C01B 13/14
C化学;冶金
01無機化学
B非金属元素;その化合物
13酸素;オゾン;酸化物または水酸化物一般
14酸化物または水酸化物の一般的製造方法
C04B 35/457
C化学;冶金
04セメント;コンクリート;人造石;セラミックス;耐火物
B石灰;マグネシア;スラグ;セメント;その組成物,例.モルタル,コンクリートまたは類似の建築材料;人造石;セラミックス;耐火物;天然石の処理
35組成に特徴を持つ成形セラミック製品;セラミック組成;セラミック製品を製造するための無機化合物粉末の処理
01酸化物を基とするもの
453酸化亜鉛,酸化スズまたは酸化ビスマスまたはそれらと他の酸化物,例.亜鉛酸塩,スズ酸塩またはビスマス酸塩,の固溶体を基とするもの
457酸化スズまたはスズ酸塩を基とするもの
CPC
H01J 37/3429
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
32Gas-filled discharge tubes, ; e.g. for surface treatment of objects such as coating, plating, etching, sterilising or bringing about chemical reactions
34operating with cathodic sputtering
3411Constructional aspects of the reactor
3414Targets
3426Material
3429Plural materials
B29L 2011/0083
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
LINDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS B29C, RELATING TO PARTICULAR ARTICLES
2011Optical elements, e.g. lenses, prisms
0083Reflectors
B32B 38/0008
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
32LAYERED PRODUCTS
BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
38Ancillary operations in connection with laminating processes
0008Electrical discharge treatment, e.g. corona, plasma treatment; wave energy or particle radiation
B32B 2037/243
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
32LAYERED PRODUCTS
BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
37Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding
14characterised by the properties of the layers
24with at least one layer not being coherent before laminating, e.g. made up from granular material sprinkled onto a substrate
243Coating
B32B 2038/0092
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
32LAYERED PRODUCTS
BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
38Ancillary operations in connection with laminating processes
0052Other operations not otherwise provided for
0092Metallizing
B32B 2309/02
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
32LAYERED PRODUCTS
BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
2309Parameters for the laminating or treatment process; Apparatus details
02Temperature
出願人 NITTO DENKO CORP
日東電工株式会社
発明者 WATANABE MASAHIKO
渡邊 聖彦
OMORI YUTAKA
大森 裕
代理人 新宅 将人
吉本 力
優先権情報 2013016633 31.01.2013 JP
発明の名称
(EN) METHOD FOR PRODUCING INFRARED REFLECTION FILM
(JA) 赤外線反射フィルムの製造方法
要約
(EN)

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for producing an infrared reflection film superior in productivity by improving continuous productivity of a metal oxide layer.

SOLUTION: An infrared reflection film comprises a transparent film base, an infrared reflection layer having a metal layer and a metal oxide layer, and a transparent protective layer. The infrared reflection layer and the metal oxide layer are disposed on the transparent film base in that order. In the production method according to the present invention, a metal oxide layer is formed by a direct current sputtering process using a roll-up type sputtering apparatus. A sputter target used in the direct current sputtering process contains zinc atoms and tin atoms. The sputter target is preferably the target obtained by sintering metal oxide of at least one of zinc oxide and tin oxide and metal powder.

COPYRIGHT: (C)2014,JPO&INPIT

(JA)

【課題】金属酸化物層の連続生産性を高めることにより、生産性に優れる赤外線反射フィルムの製造方法を提供する。
【解決手段】赤外線反射フィルムは、透明フィルム基材上に、金属層および金属酸化物層を有する赤外線反射層と、透明保護層とをこの順に備える。本発明の製造方法では、金属酸化物層が、巻取式スパッタ装置を用いる直流スパッタ法により製膜される。直流スパッタ法に用いられるスパッタターゲットは、亜鉛原子および錫原子を含有する。スパッタターゲットは、酸化亜鉛と酸化錫のうち少なくとも一方の金属酸化物と、金属粉末とが焼結されたターゲットであることが好ましい。
【選択図】図1