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1. JPWO2013001955 - 光学膜厚測定方法、光学膜厚測定システム及び光学膜厚測定プログラム他

官庁 日本
出願番号 2013522537
出願日 28.05.2012
公開番号 WO2013001955
公開日 03.01.2013
特許番号 5979143
特許付与日 05.08.2016
公報種別 B2
IPC
G01B 11/06
G物理学
01測定;試験
B長さ,厚さまたは同種の直線寸法の測定;角度の測定;面積の測定;表面または輪郭の不規則性の測定
11光学的手段の使用によって特徴づけられた測定装置
02長さ,幅または厚み測定用
06厚み測定用
CPC
G01B 11/0675
GPHYSICS
01MEASURING; TESTING
BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
11Measuring arrangements characterised by the use of optical means
02for measuring length, width or thickness
06for measuring thickness, e.g. of sheet material
0616of coating
0675using interferometry
G01N 21/77
GPHYSICS
01MEASURING; TESTING
NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
21Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using infra-red, visible or ultra-violet light
75Systems in which material is subjected to a chemical reaction, the progress or the result of the reaction being investigated
77by observing the effect on a chemical indicator
G01N 2021/7779
GPHYSICS
01MEASURING; TESTING
NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
21Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using infra-red, visible or ultra-violet light
75Systems in which material is subjected to a chemical reaction, the progress or the result of the reaction being investigated
77by observing the effect on a chemical indicator
7769Measurement method of reaction-produced change in sensor
7779interferometric
出願人 コニカミノルタ株式会社
発明者 泉谷 直幹
柏崎 治
新 勇一
関矢 忠宣
吉原 由佳
代理人 特許業務法人光陽国際特許事務所
優先権情報 2011141348 27.06.2011 JP
2012001095 06.01.2012 JP
発明の名称
(JA) 光学膜厚測定方法、光学膜厚測定システム及び光学膜厚測定プログラム他
要約
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