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PROBLEM TO BE SOLVED: To protect a lower surface of a substrate without depending on a rotation speed of the substrate, have a simple structure, and inhibit the occurrence of particles due to frictional contact.
SOLUTION: A substrate processing apparatus 1 includes: a rotary base 7; a rotation drive mechanism 3; a holding pin 10 provided at the rotary base 7; a protection disk 15 for covering a lower surface of a substrate W; and a magnetic levitation mechanism 41 levitating the protection disk 15 from the rotary base 7. The protection disk 15 may vertically move between a lower position and a close position which is located close to the lower surface of the substrate W at a position higher than the lower position. The magnetic levitation mechanism 41 includes: a protection disk side permanent magnet 60; and an annular guard side permanent magnet 25 held by a splash guard 4. When the splash guard 4 is moved up by a guard driving mechanism 5, the protection disk 15 is levitated from the rotary base 7 and is held at the close position by a magnetic repulsive force between the permanent magnets 25, 60.
COPYRIGHT: (C)2015,JPO&INPIT
【課題】基板の回転速度に依らずに基板の下面を保護することができ、構成が簡単であり、しかも摩擦接触に起因するパーティクルの発生を抑制する。【解決手段】基板処理装置1は、回転台7と、回転駆動機構3と、回転台7に設けられた保持ピン10と、基板Wの下面を覆うための保護ディスク15と、保護ディスク15を回転台7から浮上させる磁気浮上機構41とを含む。保護ディスク15は、下位置と、下位置よりも上方において基板Wの下面に接近した接近位置との間で上下動可能である。磁気浮上機構41は、保護ディスク側永久磁石60と、スプラッシュガード4に保持された環状のガード側永久磁石25とを含む。ガード駆動機構5によってスプラッシュガード4を上昇させると、永久磁石25,60の間の磁気反発力によって、保護ディスク15を回転台7から浮上させて接近位置に保持できる。【選択図】図1