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1. JP2007305633 - サーバ装置、およびプログラム

官庁 日本
出願番号 2006129729
出願日 09.05.2006
公開番号 2007305633
公開日 22.11.2007
特許番号 4697879
特許付与日 11.03.2011
公報種別 B2
IPC
H01L 21/02
H電気
01基本的電気素子
L半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02半導体装置またはその部品の製造または処理
H01L 21/205
H電気
01基本的電気素子
L半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02半導体装置またはその部品の製造または処理
04少なくとも一つの電位障壁または表面障壁,例.PN接合,空乏層,キャリア集中層,を有する装置
18不純物,例.ドーピング材料,を含むまたは含まない周期表第IV族の元素またはA↓I↓I↓IB↓V化合物から成る半導体本体を有する装置
20基板上への半導体材料の析出,例.エピタキシャル成長
205固体を析出させるガス状化合物の還元または分解を用いるもの,すなわち化学的析出を用いるもの
H01L 21/3065
H電気
01基本的電気素子
L半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02半導体装置またはその部品の製造または処理
04少なくとも一つの電位障壁または表面障壁,例.PN接合,空乏層,キャリア集中層,を有する装置
18不純物,例.ドーピング材料,を含むまたは含まない周期表第IV族の元素またはA↓I↓I↓IB↓V化合物から成る半導体本体を有する装置
30H01L21/20~H01L21/26に分類されない方法または装置を用いる半導体本体の処理
302表面の物理的性質または形状を変換するため,例.エッチング,ポリシング,切断
306化学的または電気的処理,例.電解エッチング
3065プラズマエッチング;反応性イオンエッチング
CPC
G05B 19/41875
GPHYSICS
05CONTROLLING; REGULATING
BCONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
19Programme-control systems
02electric
418Total factory control, i.e. centrally controlling a plurality of machines, e.g. direct or distributed numerical control [DNC], flexible manufacturing systems [FMS], integrated manufacturing systems [IMS], computer integrated manufacturing [CIM]
41875characterised by quality surveillance of production
G05B 2219/31331
GPHYSICS
05CONTROLLING; REGULATING
BCONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
2219Program-control systems
30Nc systems
31From computer integrated manufacturing till monitoring
31331Select manufacturing information by entering product number
G05B 2219/31432
GPHYSICS
05CONTROLLING; REGULATING
BCONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
2219Program-control systems
30Nc systems
31From computer integrated manufacturing till monitoring
31432Keep track of conveyed workpiece, batch, tool, conditions of stations, cells
G05B 2219/32179
GPHYSICS
05CONTROLLING; REGULATING
BCONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
2219Program-control systems
30Nc systems
32Operator till task planning
32179Quality control, monitor production tool with multiple sensors
G05B 2219/45031
GPHYSICS
05CONTROLLING; REGULATING
BCONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
2219Program-control systems
30Nc systems
45Nc applications
45031Manufacturing semiconductor wafers
G06Q 10/06
GPHYSICS
06COMPUTING; CALCULATING; COUNTING
QDATA PROCESSING SYSTEMS OR METHODS, SPECIALLY ADAPTED FOR ADMINISTRATIVE, COMMERCIAL, FINANCIAL, MANAGERIAL, SUPERVISORY OR FORECASTING PURPOSES; SYSTEMS OR METHODS SPECIALLY ADAPTED FOR ADMINISTRATIVE, COMMERCIAL, FINANCIAL, MANAGERIAL, SUPERVISORY OR FORECASTING PURPOSES, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
10Administration; Management
06Resources, workflows, human or project management, e.g. organising, planning, scheduling or allocating time, human or machine resources; Enterprise planning; Organisational models
出願人 TOKYO ELECTRON LTD
東京エレクトロン株式会社
発明者 INOKAWA TAKUMI
猪川 匠
KOYAMA NORIAKI
小山 典昭
代理人 谷川 英和
発明の名称
(EN) SERVER AND PROGRAM
(JA) サーバ装置、およびプログラム
要約
(EN)

PROBLEM TO BE SOLVED: To solve the problem that a chart cannot be configured by filtering of information measured on the basis of the number of product wafers in a conventional technique.

SOLUTION: A chart can be configured by filtering the information measured on the basis of product wafers by a server provided with an instruction acceptor which stores a plurality of items of measurement information as time-series information about information measured with a plurality of manufacturing apparatuses, and as information having the number of product wafers and time information, and accepts an instruction of outputting a chart including the number of product wafers; an abnormality detector for reading the plurality of items of measurement information matching with condition of the number of product wafers included in the output instruction when the instruction accepting section accepts the output instruction, and determines whether the plurality of items of read measurement information matches with the condition information; an output information configuring section for configuring the output information corresponding to a result of determination of the abnormality detecting section; and an output section for outputting the output information configured by the output information configuring section.

COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

(JA)

【課題】従来、製品ウェーハ枚数で測定された情報をフィルタリングして、チャートを構成することができなかった。
【解決手段】複数の製造装置で測定された情報についての時系列の情報であり、製品ウェーハ枚数と時刻情報を有する情報である測定情報を、複数格納しており、製品ウェーハ枚数を含むチャートの出力指示を受け付ける指示受付部と、指示受付部が出力指示を受け付けた場合、当該出力指示が含む製品ウェーハ枚数条件に合致する複数の測定情報を読み出し、当該読み出した複数の測定情報が、条件情報に合致するか否かを判断する異常検知部と、異常検知部の判断結果に応じた出力情報を構成する出力情報構成部と、前記出力情報構成部が構成した出力情報を出力する出力部を具備するサーバ装置により、製品ウェーハ枚数で測定された情報をフィルタリングして、チャートを構成することができる。
【選択図】図3