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PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an etching liquid and a method of etching for wet-etching a low-k film with a practically sufficient rate.
SOLUTION: The etching liquid for a low-k film contains (1) HF and/or a alt thereof, (2) H2SO4, or depending on necessity, (3) further contains water.
COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI
【課題】low−k膜をウェットエッチングする。【解決手段】(1)HF及び/又はその塩、(2)H2SO4及び必要に応じてさらに(3)水を含むlow−k膜用のエッチング液。【選択図】なし