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1. (JPWO2006040890) 露光装置及びデバイス製造方法

官庁 : 日本
出願番号: JP2005016379 出願日: 07.09.2005
公開番号: WO2006040890 公開日: 20.04.2006
公報種別: A5
IPC:
G03F 7/20
H01L 21/027
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
20
露光;そのための装置
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02
半導体装置またはその部品の製造または処理
027
その後のフォトリソグラフィック工程のために半導体本体にマスクするもので,グループ21/18または21/34に分類されないもの
出願人: 株式会社ニコン
発明者: 荒井 大
代理人: 志賀 正武
優先権情報: 2004296375 08.10.2004 JP
発明の名称: (JA) 露光装置及びデバイス製造方法
要約:
(JA)

計測精度の低下を招かない関係で配置された各種計測器が設けられた計測ステージを備える露光装置、及び当該露光装置を用いたデバイス製造方法を提供する。本発明の露光装置は、ウェハを保持するウェハステージとは独立して設けられた計測ステージを備える。この計測ステージの上面に保持された計測テーブル(MTB)には、空間像計測装置で用いられる第1基準マーク(FM1)と、レチクルのパターンの投影像に対するウェハステージの位置関係を計測するための第2基準マーク(FM2)とが形成された基準板(53)が設けられている。この基準板(53)及び空間像計測装置は、X軸干渉計からのビームが投射される反射面(51X)及びY軸干渉計からのビームが投射される反射面(50)の近傍に配置される。


また、:
KR1020070063505EP1806771US20090213357JP4613910WO/2006/040890