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1. (JPWO2006035571) 高純度液化塩素の製造方法

官庁 : 日本
出願番号: JP2005016157 出願日: 29.08.2005
公開番号: WO2006035571 公開日: 06.04.2006
公報種別: A1
IPC:
C01B 11/02
C01B 7/075
C 化学;冶金
01
無機化学
B
非金属元素;その化合物
11
ハロゲンの酸化物またはオキシ酸;その塩
02
塩素の酸化物
C 化学;冶金
01
無機化学
B
非金属元素;その化合物
7
ハロゲン;ハロゲン化水素酸
01
塩素;塩化水素
07
精製
075
液体塩素の
出願人: 昭和電工株式会社
発明者: 堀場 美奈子
矢後 省三
代理人: 青木 篤
石田 敬
吉田 維夫
古賀 哲次
優先権情報: 2004283475 29.09.2004 JP
発明の名称: (JA) 高純度液化塩素の製造方法
要約:
(JA)

塩素酸化物を不純物として含む原料塩素に光を照射して塩素酸化物を塩素および酸素に分解し、その後蒸留による精製を行う、高純度液化塩素の製造方法。塩素から塩素酸化物不純物が効率的に除去される。


また、:
KR1020070028586JP5219372WO/2006/035571