処理中
しばらくお待ちください...
ご意見送信
検索
簡易検索
詳細検索
構造化検索
多言語検索拡張 (CLIR)
化学化合物 (ログインが必要です)
閲覧
PCT 出願 (公開週別)
公報アーカイブ (ガゼット)
配列表 (公開週別)
国内段階移行
国内段階移行 全てダウンロード
国内段階移行 増分ダウンロード (過去 7 日分)
公報目録 (オーソリティ ファイル)
公報目録 (オーソリティ ファイル) WIPO 標準 ST.37 準拠ファイルをダウンロード
公報目録 (オーソリティ ファイル) 本年分のみダウンロード
公報目録 (オーソリティ ファイル) 全てダウンロード
ツール
WIPO 翻訳
WIPO Pearl
IPC Green Inventory
特許登録簿ポータル
設定
設定
リセット
閉じる
検索
官庁
結果表示
ダウンロード
操作画面
検索言語
【全言語】
アラビア語
イタリア語
インドネシア語
エストニア語
オランダ語
カザフ語
ギリシャ語
クメール語
ジョージア語
スウェーデン語
スペイン語
スロバキア語
セルビア語
タイ語
チェコ語
デンマーク語
ドイツ語
ノルウェー語
フィンランド語
フランス語
ブルガリア語
ヘブライ語
ベトナム語
ポルトガル語
ポーランド語
マレー語
ラオス語
ラトビア語
リトアニア語
ルーマニア語
ロシア語
中国語
日本語
英語
韓国語
既定値
語幹処理
同じパテント ファミリーに属する文献は 1 つにまとめて表示する
非特許文献 (NPL) を含める
並び替え
関連性
公開日 (新しい順)
公開日 (古い順)
出願日 (新しい順)
出願日 (古い順)
表示件数
10
50
100
200
結果一覧表示
簡易表示
コンパクト表示
詳細表示
詳細表示 (図付き)
図表示
対訳表示
ご意見・ご感想
閉じる
送信
PATENTSCOPE に関してご感想や「ここを改善してほしい」「ここを充実させてほしい」等のご要望がありましたら、是非お聞かせください。
内容
連絡先のメール アドレス
出願の表示
出願の ID/番号
1. IL255349 - TANTALUM SPUTTERING TARGET, AND PRODUCTION METHOD THEREFOR
国内書誌情報
パテント ファミリー
書類
パーマリンク
自動翻訳
WIPO Translate
英語
フランス語
ドイツ語
スペイン語
ロシア語
韓国語
日本語
中国語
アラビア語
ポルトガル語
イタリア語
フィンランド語
官庁
イスラエル
出願番号
255349
出願日
31.10.2017
公開番号
255349
公開日
31.12.2017
特許番号
255349
特許付与日
30.09.2021
公報種別
B
IPC
B21J 01/02
C22C 27/02
C
化学;冶金
22
冶金;鉄または非鉄合金;合金の処理または非鉄金属の処理
C
合金
27
レニウムまたはグループC22C14/00もしくはC22C16/00において述べられていない耐火金属を基とする合金
02
バナジウム,ニオブまたはタンタルを基とする合金
C22F 01/00
C22F 01/18
C23C 14/34
C
化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法または化学蒸着による被覆一般
14
被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
22
被覆の方法に特徴のあるもの
34
スパッタリング
B21J 01/02
C22C 27/02
C
化学;冶金
22
冶金;鉄または非鉄合金;合金の処理または非鉄金属の処理
C
合金
27
レニウムまたはグループC22C14/00もしくはC22C16/00において述べられていない耐火金属を基とする合金
02
バナジウム,ニオブまたはタンタルを基とする合金
C22F 01/00
C22F 01/18
C23C 14/34
C
化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法または化学蒸着による被覆一般
14
被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
22
被覆の方法に特徴のあるもの
34
スパッタリング
分類の表示データを減らす
CPC
B21J 1/02
B
PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
21
MECHANICAL METAL-WORKING WITHOUT ESSENTIALLY REMOVING MATERIAL; PUNCHING METAL
J
FORGING; HAMMERING; PRESSING METAL; RIVETING; FORGE FURNACES
1
Preparing metal stock ; or similar ancillary operations prior, during or post forging, e.g. heating or cooling
02
Preliminary treatment of metal stock without particular shaping, e.g. salvaging segregated zones, forging or pressing in the rough
C22C 27/02
C
CHEMISTRY; METALLURGY
22
METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
C
ALLOYS
27
Alloys based on rhenium or a refractory metal not mentioned in groups
C22C14/00
or
C22C16/00
02
Alloys based on vanadium, niobium, or tantalum
C22F 1/00
C
CHEMISTRY; METALLURGY
22
METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
F
CHANGING THE PHYSICAL STRUCTURE OF NON-FERROUS METALS AND NON-FERROUS ALLOYS
1
Changing the physical structure of non-ferrous metals or alloys by heat treatment or by hot or cold working
C22F 1/18
C
CHEMISTRY; METALLURGY
22
METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
F
CHANGING THE PHYSICAL STRUCTURE OF NON-FERROUS METALS AND NON-FERROUS ALLOYS
1
Changing the physical structure of non-ferrous metals or alloys by heat treatment or by hot or cold working
16
of other metals or alloys based thereon
18
High-melting or refractory metals or alloys based thereon
C23C 14/3414
C
CHEMISTRY; METALLURGY
23
COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
C
COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
14
Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
22
characterised by the process of coating
34
Sputtering
3407
Cathode assembly for sputtering apparatus, e.g. Target
3414
Metallurgical or chemical aspects of target preparation, e.g. casting, powder metallurgy
C23C 14/34
C
CHEMISTRY; METALLURGY
23
COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
C
COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
14
Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
22
characterised by the process of coating
34
Sputtering
分類をさらに表示
B21J 1/02
B
PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
21
MECHANICAL METAL-WORKING WITHOUT ESSENTIALLY REMOVING MATERIAL; PUNCHING METAL
J
FORGING; HAMMERING; PRESSING METAL; RIVETING; FORGE FURNACES
1
Preparing metal stock ; or similar ancillary operations prior, during or post forging, e.g. heating or cooling
02
Preliminary treatment of metal stock without particular shaping, e.g. salvaging segregated zones, forging or pressing in the rough
C22C 27/02
C
CHEMISTRY; METALLURGY
22
METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
C
ALLOYS
27
Alloys based on rhenium or a refractory metal not mentioned in groups
C22C14/00
or
C22C16/00
02
Alloys based on vanadium, niobium, or tantalum
C22F 1/00
C
CHEMISTRY; METALLURGY
22
METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
F
CHANGING THE PHYSICAL STRUCTURE OF NON-FERROUS METALS AND NON-FERROUS ALLOYS
1
Changing the physical structure of non-ferrous metals or alloys by heat treatment or by hot or cold working
C22F 1/18
C
CHEMISTRY; METALLURGY
22
METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
F
CHANGING THE PHYSICAL STRUCTURE OF NON-FERROUS METALS AND NON-FERROUS ALLOYS
1
Changing the physical structure of non-ferrous metals or alloys by heat treatment or by hot or cold working
16
of other metals or alloys based thereon
18
High-melting or refractory metals or alloys based thereon
C23C 14/3414
C
CHEMISTRY; METALLURGY
23
COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
C
COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
14
Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
22
characterised by the process of coating
34
Sputtering
3407
Cathode assembly for sputtering apparatus, e.g. Target
3414
Metallurgical or chemical aspects of target preparation, e.g. casting, powder metallurgy
C23C 14/34
C
CHEMISTRY; METALLURGY
23
COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
C
COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
14
Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
22
characterised by the process of coating
34
Sputtering
C23C 14/3407
C
CHEMISTRY; METALLURGY
23
COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
C
COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
14
Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
22
characterised by the process of coating
34
Sputtering
3407
Cathode assembly for sputtering apparatus, e.g. Target
分類の表示データを減らす
出願人
JX NIPPON MINING & METALS CORPORATION
代理人
REINHOLD COHN AND PARTNERS
ריינהולד כהן ושותפיו
優先権情報
2015-104295 22.05.2015 JP
発明の名称
(EN)
TANTALUM SPUTTERING TARGET, AND PRODUCTION METHOD THEREFOR
(HE)
מטרת התזה עם טנטאלום ושיטה לייצורה
関連特許文献
EP3260572
KR1020170127548
CN107532287
SG11201708112T
US20180105926
JPWO2016190159
WO/2016/190159