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1. (EP3124104) MONOLITHIC SEPARATION MEMBRANE STRUCTURE, AND METHOD FOR PRODUCING MONOLITHIC SEPARATION MEMBRANE STRUCTURE

官庁 : 欧州特許庁(EPO)
出願番号: 15769832 出願日: 13.02.2015
公開番号: 3124104 公開日: 01.02.2017
公報種別: A4
指定国: AL, AT, BA, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LI, LT, LU, LV, MC, ME, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR
(国内移行後) 元 PCT 国際出願 出願番号:JP2015054012 ; 公開番号: クリックしてデータを表示
IPC:
B01D 69/04
B01D 53/22
B01D 63/06
B01D 67/00
B01D 69/02
B01D 69/10
B01D 69/12
B01D 71/02
B 処理操作;運輸
01
物理的または化学的方法または装置一般
D
分離
69
形状,構造または特性に特徴のある分離工程または装置のための半透膜;そのために特に適合した製造工程
04
管状膜
B 処理操作;運輸
01
物理的または化学的方法または装置一般
D
分離
53
ガスまたは蒸気の分離;ガスからの揮発性溶剤蒸気の回収;廃ガスの化学的または生物学的浄化,例.エンジン排気ガス,煙,煙霧,煙道ガスまたはエアロゾル
22
拡散によるもの
B 処理操作;運輸
01
物理的または化学的方法または装置一般
D
分離
63
半透膜を用いる分離工程のための装置一般
06
管状膜モジュール
B 処理操作;運輸
01
物理的または化学的方法または装置一般
D
分離
67
分離工程または装置のための半透膜の製造に特に適合した工程
B 処理操作;運輸
01
物理的または化学的方法または装置一般
D
分離
69
形状,構造または特性に特徴のある分離工程または装置のための半透膜;そのために特に適合した製造工程
02
それらの特性に特徴のあるもの
B 処理操作;運輸
01
物理的または化学的方法または装置一般
D
分離
69
形状,構造または特性に特徴のある分離工程または装置のための半透膜;そのために特に適合した製造工程
10
支持膜;膜支持体
B 処理操作;運輸
01
物理的または化学的方法または装置一般
D
分離
69
形状,構造または特性に特徴のある分離工程または装置のための半透膜;そのために特に適合した製造工程
12
複合膜;超薄膜
B 処理操作;運輸
01
物理的または化学的方法または装置一般
D
分離
71
材料に特徴のある分離工程または装置のための半透膜;そのために特に適合した製造工程
02
無機材料
CPC:
B01D 46/2429
B01D 63/066
B01D 67/0046
B01D 69/02
B01D 69/12
B01D 71/021
B01D 71/024
B01D 71/025
B01D 2325/04
B01D 2325/06
B01D 53/228
B01D 71/027
B01D 71/028
出願人: NGK INSULATORS LTD
発明者: MIYAHARA MAKOTO
ICHIKAWA MAKIKO
SUZUKI HIDEYUKI
優先権情報: 2014069301 28.03.2014 JP
2015054012 13.02.2015 JP
発明の名称: (DE) MONOLITHISCHE TRENNMEMBRANSTRUKTUR UND VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINER MONOLITHISCHEN TRENNMEMBRANSTRUKTUR
(EN) MONOLITHIC SEPARATION MEMBRANE STRUCTURE, AND METHOD FOR PRODUCING MONOLITHIC SEPARATION MEMBRANE STRUCTURE
(FR) STRUCTURE DE MEMBRANE DE SÉPARATION MONOLITHIQUE, ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE STRUCTURE DE MEMBRANE DE SÉPARATION MONOLITHIQUE
要約: front page image
(EN) A monolithic separation membrane structure (100) comprises a porous monolithic substrate (200) and a separation membrane (300). The monolithic substrate (200) includes a first end surface (210a), a second end surface (210b) and a plurality of through-holes (210d) respectively passing from the first end surface (210a) to the second end surface (210b). The separation membrane (300) is formed on an inner surface of the respective plurality of through-holes (210d). The surface roughness Ra of the separation membrane (300) is no more than 1 micrometer and the thickness of the separation membrane (300) is no more than 5 micrometers.
(FR) La présente invention concerne une structure de membrane de séparation monolithique (100) qui est équipée d'un substrat monolithique poreux (200) et d’une membrane de séparation (300). Le substrat monolithique (200) a une première surface d'extrémité (210a), une deuxième surface d'extrémité (210b), et une pluralité de trous de passage (210d) s'étendant de la première surface d'extrémité (210a) à la deuxième surface d'extrémité (210b). La membrane de séparation (300) est formée sur la surface intérieure de chacun de la pluralité de trous de passage (210d). La rugosité de surface (Ra) de la membrane de séparation (300) est de 1 µm ou moins. L'épaisseur de la membrane de séparation (300) est de 5 µm ou moins.
Also published as:
CN106102879US20160375405JPWO2015146354MYPI 2016703404WO/2015/146354