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1. (EP3118684) RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN

官庁 : 欧州特許庁(EPO)
出願番号: 15762188 出願日: 13.03.2015
公開番号: 3118684 公開日: 18.01.2017
公報種別: B1
指定国: AL, AT, BA, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LI, LT, LU, LV, MC, ME, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR
(国内移行後) 元 PCT 国際出願 出願番号:JP2015057470 ; 公開番号: クリックしてデータを表示
IPC:
G03F 7/038
C07C 39/15
G03F 7/004
H01L 21/027
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
038
不溶性又は特異的に親水性になる高分子化合物
C 化学;冶金
07
有機化学
C
非環式化合物または炭素環式化合物
39
6員芳香環の炭素原子に結合している少なくとも1個の水酸基またはO―金属基をもつ化合物
12
芳香環以外に不飽和結合を有しない多環式のもの
15
すべての水酸基を非縮合環に有するもの
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
04
クロム酸塩
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02
半導体装置またはその部品の製造または処理
027
その後のフォトリソグラフィック工程のために半導体本体にマスクするもので,グループ21/18または21/34に分類されないもの
CPC:
C07C 39/15
G03F 7/0382
G03F 7/0045
G03F 7/162
G03F 7/168
G03F 7/2037
G03F 7/327
G03F 7/40
出願人: MITSUBISHI GAS CHEMICAL CO
発明者: SATO TAKASHI
ECHIGO MASATOSHI
優先権情報: 2014050767 13.03.2014 JP
2015057470 13.03.2015 JP
発明の名称: (DE) RESISTZUSAMMENSETZUNG UND VERFAHREN ZUR BILDUNG EINER RESISTSTRUKTUR
(EN) RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN
(FR) COMPOSITION DE RÉSERVE ET PROCÉDÉS DE FORMATION D'UN MOTIF DE RÉSERVE
要約:
(EN) The resist composition according to the present invention contains a compound represented by a specific formula. The compound has high heat resistance attributed to its highly aromatic skeleton, in spite of its low molecular weight, and may be used even under high temperature baking conditions. By virtue of the above configuration, the resist composition according to the present invention is excellent in heat resistance, has high solubility in a safe solvent, has high sensitivity, and can impart a good shape to a resist pattern. That is, the resist composition according to the present invention is useful as an acid amplification type non-polymer based resist material.
(FR) L'invention porte sur une composition de réserve qui contient un composé qui est représenté par une formule spécifique. Le composé a une résistance thermique élevée en raison d'un squelette de ce dernier ayant une aromaticité élevée et est apte à être utilisé dans des conditions de cuisson à haute température en dépit du faible poids moléculaire de ce dernier. En raison de la configuration décrite ci-dessus, cette composition de réserve est apte à fournir un bon motif de réserve qui a une excellente résistance thermique, une solubilité élevée dans un solvant sans danger et une sensibilité élevée. C'est-à-dire, cette composition de réserve est utile en tant que matériau de réserve non-polymère amplifié par acide.
Also published as:
SG11201607443XUS20170075220JPWO2015137485CN106133604KR1020160134678WO/2015/137485