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1. EP2952610 - PRODUCTION METHOD FOR INFRARED RADIATION REFLECTING FILM

官庁
欧州特許庁(EPO)
出願番号 14746647
出願日 30.01.2014
公開番号 2952610
公開日 09.12.2015
公報種別 A4
IPC
B32B 9/00
B処理操作;運輸
32積層体
B積層体,すなわち平らなまたは平らでない形状,例.細胞状またはハニカム状,の層から組立てられた製品
9本質的にグループB32B11/00~B32B29/00に包含されない特殊な物質からなる積層体
B32B 38/00
B処理操作;運輸
32積層体
B積層体,すなわち平らなまたは平らでない形状,例.細胞状またはハニカム状,の層から組立てられた製品
38積層過程に伴う付随的操作
C23C 14/06
C化学;冶金
23金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法または化学蒸着による被覆一般
14被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
06被覆材料に特徴のあるもの
C23C 14/08
C化学;冶金
23金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法または化学蒸着による被覆一般
14被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
06被覆材料に特徴のあるもの
08酸化物
C23C 14/34
C化学;冶金
23金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法または化学蒸着による被覆一般
14被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
22被覆の方法に特徴のあるもの
34スパッタリング
G02B 5/26
G物理学
02光学
B光学要素,光学系,または光学装置
5レンズ以外の光学要素
20フィルター
26反射フィルター
CPC
H01J 37/3429
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
32Gas-filled discharge tubes, ; e.g. for surface treatment of objects such as coating, plating, etching, sterilising or bringing about chemical reactions
34operating with cathodic sputtering
3411Constructional aspects of the reactor
3414Targets
3426Material
3429Plural materials
B29L 2011/0083
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
LINDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS B29C, RELATING TO PARTICULAR ARTICLES
2011Optical elements, e.g. lenses, prisms
0083Reflectors
B32B 38/0008
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
32LAYERED PRODUCTS
BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
38Ancillary operations in connection with laminating processes
0008Electrical discharge treatment, e.g. corona, plasma treatment; wave energy or particle radiation
B32B 2037/243
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
32LAYERED PRODUCTS
BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
37Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding
14characterised by the properties of the layers
24with at least one layer not being coherent before laminating, e.g. made up from granular material sprinkled onto a substrate
243Coating
B32B 2038/0092
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
32LAYERED PRODUCTS
BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
38Ancillary operations in connection with laminating processes
0052Other operations not otherwise provided for
0092Metallizing
B32B 2309/02
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
32LAYERED PRODUCTS
BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
2309Parameters for the laminating or treatment process; Apparatus details
02Temperature
出願人 NITTO DENKO CORP
発明者 WATANABE MASAHIKO
OHMORI YUTAKA
指定国 (国コード)
優先権情報 2013016633 31.01.2013 JP
2014008874 21.01.2014 JP
発明の名称
(DE) HERSTELLUNGSVERFAHREN FÜR INFRAROTSTRAHLUNGSREFLEKTIERENDE FOLIE
(EN) PRODUCTION METHOD FOR INFRARED RADIATION REFLECTING FILM
(FR) PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN FILM RÉFLÉCHISSANT LE RAYONNEMENT INFRAROUGE
要約
(EN)
An infrared reflecting film (100) includes an infrared reflecting layer (20) having a metal layer (25) and a metal oxide layer (21, 22) and a transparent protective layer (30) in this order on a transparent film substrate (10). In the manufacturing method, the metal oxide layer is deposited by a DC sputtering method using a roll-to-roll sputtering apparatus. A sputtering target used in the DC sputtering method contains zinc atoms and tin atoms. The sputtering target is preferably obtained by sintering a metal powder and at least one metal oxide among zinc oxide and tin oxide.

(FR)
Le film réfléchissant le rayonnement infrarouge (100) selon l'invention comprend, dans l'ordre, une couche (20) réfléchissant le rayonnement infrarouge comportant une couche de métal (25) et des couches d'oxyde métallique (21, 22) ainsi qu'une couche de protection transparente (30) située sur un substrat (10) de film transparent. Dans ce procédé de fabrication, les couches d'oxyde de métal sont formées par pulvérisation cathodique CC à l'aide d'un appareil de pulvérisation d'enroulement. La cible de pulvérisation cathodique utilisée dans la pulvérisation CC contient des atomes de zinc et des atomes d'étain. La cible de pulvérisation est de préférence obtenue par frittage d'une poudre métallique, et d'au moins un oxyde métallique choisi entre un oxyde de zinc et de l'oxyde d'étain.