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1. CN1723188 - Process for reductive dehalogenation

官庁
中華人民共和国
出願番号 200480001834.9
出願日 07.01.2004
公開番号 1723188
公開日 18.01.2006
特許番号 1304356
特許付与日 14.03.2007
公報種別 C
IPC
C07C 67/317
C化学;冶金
07有機化学
C非環式化合物または炭素環式化合物
67カルボン酸エステルの製造
30エステル基を導入することなくエステルの酸部分を変化させることによるもの
317水素または官能基の離脱によるもの;官能基の水添分解によるもの
C07C 69/74
C化学;冶金
07有機化学
C非環式化合物または炭素環式化合物
69カルボン酸のエステル;炭酸またはハロぎ酸のエステル
74エステル化されているカルボキシル基が6員芳香環以外の環の炭素原子に結合しているカルボン酸のエステル
C07B 61/00
C化学;冶金
07有機化学
B有機化学の一般的方法あるいはそのための装置
61他の一般的方法
CPC
C07C 67/317
CCHEMISTRY; METALLURGY
07ORGANIC CHEMISTRY
CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
67Preparation of carboxylic acid esters
30by modifying the acid moiety of the ester, such modification not being an introduction of an ester group
317by splitting-off hydrogen or functional groups; by hydrogenolysis of functional groups
C07C 2601/02
CCHEMISTRY; METALLURGY
07ORGANIC CHEMISTRY
CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
2601Systems containing only non-condensed rings
02with a three-membered ring
出願人 Daiichi Seiyaku Co.
第一制药株式会社
発明者 Nakayama Keiji
谷雄一郎
Tani Yuichiro
中山敬司
Sakuratani Kenji
櫻谷宪司
Sato Koji
佐藤耕司
代理人 sha yongsheng
上海专利商标事务所有限公司
優先権情報 001300/2003 07.01.2003 JP
発明の名称
(EN) Process for reductive dehalogenation
(ZH) 还原脱卤方法
要約
(EN) A process for production of 2-fluor ocyclopropane-1-carboxylic esters, characterized by reacting a compound represented by the general formula (1) with a reducing agent in the presence of a phase transfer catalyst: (1) wherein X is chloro, bromo, or iodo; and R<1> is alkyl having 1 to 8 carbon atoms, aryl having 6 to 12 carbon atoms, alkenyl having 2 to 8 carbon atoms, or aralkyl composed of aryl having 6 to 12 carbon atoms and alkylene having 1 to 6 carbon atoms. According to the process, the reaction time of dehalogenation can be remarkably shortened.
(ZH)

2-氟环丙烷-1-羧酸酯的制备方法,该方法的特征在于,在相间转移催化剂的存在下,使下式(1):表示的化合物与还原剂反应,式中,X表示氯原子、溴原子或碘原子;R1表示碳原子数1~8的烷基、碳原子数6~12的芳基、碳原子数2~8的链烯基或由碳原子数6~12的芳基和碳原子数1~6的亚烷基构成的芳烷基。采用本发明的制备方法能够大幅度缩短脱卤反应的反应时间。


関連特許文献
NO20053208出願が移行したが国内段階でまだ公開されていないか、WIPO にデータを提供していない国への移行が通知されたか、あるいは出願の形式に問題があり、またはその他の理由で利用可能な状態でないため、PATENTSCOPE で表示できません。