CN113631537 CARBAMOYL OXIME COMPOUND, AND POLYMERIZATION INITIATOR AND POLYMERIZABLE COMPOSITION CONTAINING SAID COMPOUND

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官庁

中華人民共和国

出願番号 202080024046.0

出願日 22.05.2020

公開番号 113631537

公開日 09.11.2021

公報種別 A

IPC

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CPC

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出願人 ADEKA CORPORATION
株式会社艾迪科

発明者 TOMOTA KAZUKI
友田和贵
OTSUKI RYOYA
大槻龙也
ARIYOSHI TOMOYUKI
有吉智幸
OKADA MITSUHIRO
冈田光裕
KIMURA MASAKI
木村正树

代理人永新专利商标代理有限公司 72002

優先権情報 2019-098066 24.05.2019 JP

発明の名称

(EN) CARBAMOYL OXIME COMPOUND, AND POLYMERIZATION INITIATOR AND POLYMERIZABLE COMPOSITION CONTAINING SAID COMPOUND

(ZH) 氨基甲酰肟化合物及含有该化合物的聚合引发剂及聚合性组合物

要約

(EN) The present invention addresses the problem of providing a compound of high photobase generation efficiency. The present invention is a carbamoyl oxime compound represented by general formula (I). (In the formula, A represents an aromatic-ring-comprising group comprising 6-20 carbon atoms; R1 represents an electron-withdrawing group; X1 represents -NR2R3 or the like; R2 and R3 each independently represent an aliphatic hydrocarbon group comprising 1-20 carbon atoms or an aromatic hydrocarbon group comprising 6-20 carbon atoms; R2 and R3 may optionally link together to form a ring constituted by a hydrogen atom, a nitrogen atom, and 2-10 carbon atoms or a ring constituted by a hydrogen atom, an oxygen atom, a nitrogen atom, and 2-10 carbon atoms; and n represents 0 or 1.

(ZH) 本发明的课题在于提供具有高的光产碱效率的化合物。本发明为通式(I)所示的氨基甲酰肟化合物。(式中，A表示碳原子数为6～20的含芳香环的基团，R1表示吸电子性基团，X1表示‑NR2R3等，R2及R3各自独立地表示碳原子数为1～20的脂肪族烃基或碳原子数为6～20的芳香族烃基，R2与R3可以相互连结，形成由氢原子、氮原子及碳原子构成的碳原子数为2～10的环、或由氢原子、氧原子、氮原子及碳原子构成的碳原子数为2～10的环，n表示0或1。

C	化学;冶金
07	有機化学
C	非環式化合物または炭素環式化合物
323	ハロゲン,酸素,窒素原子またはチオ基の一部でない硫黄原子で置換されたチオール,スルフィド,ヒドロポリスルフィドまたはポリスルフィド
23	チオ基と同じ炭素骨格に結合しているニトロまたはニトロソ基の一部でない窒素原子を含有するもの
31	少なくとも1個のチオ基の硫黄原子が炭素骨格の6員芳香環の炭素原子に結合しているもの
32	少なくとも1個の窒素原子が炭素骨格の非環式炭素原子に結合しているもの

C	化学;冶金
07	有機化学
C	非環式化合物または炭素環式化合物
319	チオール,スルフィド,ヒドロポリスルフィドまたはポリスルフィドの製造
14	スルフィドの製造
20	スルフィド基の形成が関与しない反応によるもの

C	化学;冶金
07	有機化学
D	複素環式化合物(高分子化合物C08)
233	他の環と縮合していない1,3―ジアゾール環または水素添加した1,3―ジアゾールからなる複素環式化合物
54	環原子相互間または環原子と非環原子間に2個の二重結合を有するもの
56	環の炭素原子に結合する,水素原子,または水素原子および炭素原子のみを含有する基のみを有するもの

C	化学;冶金
07	有機化学
D	複素環式化合物(高分子化合物C08)
409	2個以上の複素環を含有し,そのうち少なくても1個が異項原子として硫黄のみをもつ複素環式化合物
02	2個の複素環を含有するもの
12	鎖結合として異種原子を含有する鎖により結合しているもの

C	化学;冶金
07	有機化学
D	複素環式化合物(高分子化合物C08)
317	異項原子として2個の酸素原子のみをもつ5員環を含有する複素環式化合物
08	その異項原子を1,3位にもつもの
10	他の環と縮合していないもの
14	環の炭素原子に異種原子で置換された炭化水素基が結合したもの
18	単結合の酸素または硫黄原子で置換された基
22	エーテル化されたもの

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1. CN113631537 - CARBAMOYL OXIME COMPOUND, AND POLYMERIZATION INITIATOR AND POLYMERIZABLE COMPOSITION CONTAINING SAID COMPOUND

C	化学;冶金
07	有機化学
F	炭素,水素,ハロゲン,酸素,窒素,硫黄,セレンまたはテルル以外の元素を含有する非環式,炭素環式または複素環式化合物
9	周期表の第5族または第15族の元素を含有する化合物
02	リン化合物
28	1個以上のP-C結合をもつもの
535	有機ホスホラン

C	化学;冶金
08	有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
F	炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応によってえられる高分子化合物
2	重合方法
46	波動エネルギーまたは粒子線の照射によって開始される重合
48	紫外線または可視光線によるもの

G	物理学
03	写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F	フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7	フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004	感光材料

C	CHEMISTRY; METALLURGY
07	ORGANIC CHEMISTRY
C	ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
323	Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups
23	containing thio groups and nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups, bound to the same carbon skeleton
31	having the sulfur atom of at least one of the thio groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring of the carbon skeleton
32	having at least one of the nitrogen atoms bound to an acyclic carbon atom of the carbon skeleton

C	CHEMISTRY; METALLURGY
07	ORGANIC CHEMISTRY
D	HETEROCYCLIC COMPOUNDS
233	Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, not condensed with other rings
54	having two double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
56	with only hydrogen atoms or radicals containing only hydrogen and carbon atoms, attached to ring carbon atoms

C	CHEMISTRY; METALLURGY
07	ORGANIC CHEMISTRY
F	ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
9	Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic System
02	Phosphorus compounds
28	with one or more P—C bonds
535	Organo-phosphoranes
5355	Phosphoranes containing the structure P=N-

C	CHEMISTRY; METALLURGY
08	ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
F	MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
2	Processes of polymerisation
46	Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
48	by ultra-violet or visible light

G	PHYSICS
03	PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
F	PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7	Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
004	Photosensitive materials

C	CHEMISTRY; METALLURGY
08	ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
K	Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
5	Use of organic ingredients
16	Nitrogen-containing compounds
34	Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring
3412	having one nitrogen atom in the ring
3432	Six-membered rings
3435	Piperidines

C	CHEMISTRY; METALLURGY
08	ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
L	COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
101	Compositions of unspecified macromolecular compounds
02	characterised by the presence of specified groups ; , e.g. terminal or pendant functional groups

C	化学;冶金
07	有機化学
D	複素環式化合物(高分子化合物C08)
295	環の炭素原子に水素原子のみが直接結合した,少なくとも5員環のポリメチレン―イミン環,3―アザビシクロノナン,ピペラジン,モルホリンまたはチオモルホリン環を含有する複素環式化合物
16	環の窒素原子がアシル化されたもの
18	カルボン酸またはその硫黄もしくは窒素類似体から誘導された基によるアシル化物
195	カルボン酸の窒素類似体から誘導された基

C	化学;冶金
07	有機化学
D	複素環式化合物(高分子化合物C08)
295	環の炭素原子に水素原子のみが直接結合した,少なくとも5員環のポリメチレン―イミン環,3―アザビシクロノナン,ピペラジン,モルホリンまたはチオモルホリン環を含有する複素環式化合物
16	環の窒素原子がアシル化されたもの
18	カルボン酸またはその硫黄もしくは窒素類似体から誘導された基によるアシル化物
195	カルボン酸の窒素類似体から誘導された基

C	化学;冶金
07	有機化学
D	複素環式化合物(高分子化合物C08)
487	縮合系中に異項原子として窒素原子のみを含有し,C07D451/00~C07D477/00までに属さない複素環式化合物
02	縮合系が2個の複素環を含有するもの
04	オルソー縮合系

C	化学;冶金
07	有機化学
D	複素環式化合物(高分子化合物C08)
209	異項原子として1個の窒素原子のみを含有し,他の環と縮合している5員環からなる複素環式化合物
56	3個またはそれ以上の環からなる環系
80	―または―縮合しているもの
82	カルバゾール;水素添加したカルバゾール
88	異種原子,または異種原子に対する3個の結合をもち,そのうち多くても1個がハロゲンに対する結合である炭素原子,例.エステルまたはニトリル基,が環の炭素原子に直接結合したもの

C	CHEMISTRY; METALLURGY
09	DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
K	MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
3	Materials not provided for elsewhere

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