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1. (CN106103790) Deposition apparatus, method for controlling same, deposition method using deposition apparatus, and device manufacturing method

官庁 : 中華人民共和国
出願番号: 201580013126.5 出願日: 23.02.2015
公開番号: 106103790 公開日: 09.11.2016
特許番号: 106103790 特許付与日: 07.12.2018
公報種別: B
(国内移行後) 元 PCT 国際出願 出願番号:PCTJP2015000886 ; 公開番号:2015136857 クリックしてデータを表示
IPC:
C23C 14/24
H01L 51/50
H05B 33/10
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
14
被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
22
被覆の方法に特徴のあるもの
24
真空蒸着
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
51
能動部分として有機材料を用い,または能動部分として有機材料と他の材料との組み合わせを用いる固体装置;このような装置またはその部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
50
光放出に特に適用されるもの,例.有機発光ダイオード(OLED)または高分子発光ダイオード(PLED)
H 電気
05
他に分類されない電気技術
B
電気加熱;他に分類されない電気照明
33
エレクトロルミネッセンス光源
10
エレクトロルミネッセンス光源の製造に特に適用する装置または方法
CPC:
C23C 14/542
C23C 14/12
C23C 14/24
C23C 14/243
C23C 14/564
H01L 51/5215
H01L 51/56
出願人: JOLED INC.
株式会社日本有机雷特显示器
発明者: TAKIGUCHI AKIRA
泷口明
代理人: 北京市中咨律师事务所 11247
北京市中咨律师事务所 11247
優先権情報: 2014-048024 11.03.2014 JP
発明の名称: (EN) Deposition apparatus, method for controlling same, deposition method using deposition apparatus, and device manufacturing method
(ZH) 蒸镀装置及其控制方法、使用了蒸镀装置的蒸镀方法、以及器件的制造方法
要約: front page image
(EN) This deposition apparatus that codeposits different deposition materials is provided with: a chamber having a subject on which deposition materials are to be deposited is disposed therein; a first deposition source that discharges vapor of a first deposition material toward the subject; a second deposition source that discharges vapor of a second deposition material toward the subject; a first heating unit that heats the first deposition material; a second heating unit that heats the second deposition material; and a heating control unit that controls the first heating unit and the second heating unit. The heating control unit is configured to control the first and second heating units such that temperature increase of the second deposition material starts a predetermined time later than temperature increase of the first deposition material.
(ZH) 一种共蒸镀不同的蒸镀材料的蒸镀装置,包括:腔室,蒸镀对象物设于腔室内;向蒸镀对象物吐出第1蒸镀材料的蒸气的第1蒸镀源;向蒸镀对象物吐出第2蒸镀材料的蒸气的第2蒸镀源;对第1蒸镀材料进行加热的第1加热部;对第2蒸镀材料进行加热的第2加热部;和控制第1加热部及第2加热部的加热控制部;加热控制部构成为能够将第1及第2加热部控制成第2蒸镀材料的升温比第1蒸镀材料的升温滞后预定时间而开始。
Also published as:
US20170022605JPWO2015136857US20180298489WO/2015/136857