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1. (CN104204954) 微粒污染物测量方法和装置

官庁 : 中華人民共和国
出願番号: 201380018477.6 出願日: 28.03.2013
公開番号: 104204954 公開日: 10.12.2014
特許番号: 104204954 特許付与日: 11.05.2016
公報種別: B
(国内移行後) 元 PCT 国際出願 出願番号:PCTEP2013056794 ; 公開番号: クリックしてデータを表示
IPC:
G03F 7/20
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
20
露光;そのための装置
[IPC code unknown for ERROR IPC code incorrect: empty]
CPC:
G01N 21/47
G01N 21/94
G01N 2001/028
G01N 2001/2833
G03F 1/82
G03F 7/7085
G03F 7/70908
G03F 7/20
H01L 21/0274
H01L 22/30
B32B 37/24
B32B 38/10
B32B 2037/243
G01N 21/956
G01N 2201/06113
G01N 2201/105
出願人: ASML荷兰有限公司
荷兰国家应用科学研究院
発明者: A·德乔恩
J·范德东克
代理人: 中科专利商标代理有限责任公司 11021
優先権情報: 61/619,209 02.04.2012 US
発明の名称: (ZH) 微粒污染物测量方法和装置
要約: front page image
(ZH)

本发明公开一种微粒污染物测量方法和设备。该方法例如包括:将聚氨酯弹性体(2)的测量表面(5)压靠待测的表面(7);从该表面移除聚氨酯弹性体而不留下残余物;随后,使用光学设备(11)检测已经通过聚氨酯弹性体从该表面移除并且已经附着至聚氨酯弹性体的微粒(8)。


Also published as:
EP2834709US20150055127KR1020150013483JP6282260JP2015517101WO/2013/149961