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1. CN103966559 - PRODUCTION METHOD FOR INFRARED RADIATION REFLECTING FILM

官庁
中華人民共和国
出願番号 201410042784.4
出願日 29.01.2014
公開番号 103966559
公開日 06.08.2014
公報種別 A
IPC
C23C 14/34
C化学;冶金
23金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法または化学蒸着による被覆一般
14被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
22被覆の方法に特徴のあるもの
34スパッタリング
C23C 14/08
C化学;冶金
23金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法または化学蒸着による被覆一般
14被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
06被覆材料に特徴のあるもの
08酸化物
C23C 14/14
C化学;冶金
23金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法または化学蒸着による被覆一般
14被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
06被覆材料に特徴のあるもの
14金属質材料,ほう素またはけい素
G02B 5/08
G物理学
02光学
B光学要素,光学系,または光学装置
5レンズ以外の光学要素
08反射鏡
CPC
H01J 37/3429
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
32Gas-filled discharge tubes, ; e.g. for surface treatment of objects such as coating, plating, etching, sterilising or bringing about chemical reactions
34operating with cathodic sputtering
3411Constructional aspects of the reactor
3414Targets
3426Material
3429Plural materials
B29L 2011/0083
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
LINDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS B29C, RELATING TO PARTICULAR ARTICLES
2011Optical elements, e.g. lenses, prisms
0083Reflectors
B32B 38/0008
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
32LAYERED PRODUCTS
BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
38Ancillary operations in connection with laminating processes
0008Electrical discharge treatment, e.g. corona, plasma treatment; wave energy or particle radiation
B32B 2037/243
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
32LAYERED PRODUCTS
BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
37Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding
14characterised by the properties of the layers
24with at least one layer not being coherent before laminating, e.g. made up from granular material sprinkled onto a substrate
243Coating
B32B 2038/0092
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
32LAYERED PRODUCTS
BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
38Ancillary operations in connection with laminating processes
0052Other operations not otherwise provided for
0092Metallizing
B32B 2309/02
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
32LAYERED PRODUCTS
BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
2309Parameters for the laminating or treatment process; Apparatus details
02Temperature
出願人 NITTO DENKO CORPORATION
発明者 WATANABE MASAHIKO
OHMORI YUTAKA
代理人 liu xinyu li maojia
優先権情報 2013-016633 31.01.2013 JP
2014008874 21.01.2014 JP
発明の名称
(EN) PRODUCTION METHOD FOR INFRARED RADIATION REFLECTING FILM
(ZH) 红外线反射薄膜的制造方法
要約
(EN)
The invention relates to a production method for an infrared radiation reflecting film. The infrared radiation reflecting film (100) is provided with, in order, an infrared radiation reflecting layer (20) having a metal layer (25) and metal oxide layers (21, 22), and a transparent protective layer (30) on a transparent film substrate (10). In this production method, the metal oxide layers are formed by DC sputtering using a winding sputtering apparatus. The sputtering target used in DC sputtering contains zinc atoms and tin atoms. The sputtering target is preferably obtained by sintering a metal powder, and at least one metal oxide among zinc oxide and tin oxide.

(ZH)

本发明涉及红外线反射薄膜的制造方法。所述红外线反射薄膜(100)在透明薄膜基材(10)上按顺序具备红外线反射层(20)和透明保护层(30),所述红外线反射层具有金属层(25)和金属氧化物层(21,22)。在本发明的制造方法中,金属氧化物层通过使用卷取式溅射装置的直流溅射法来制膜。在直流溅射法中使用的溅射靶含有锌原子和锡原子。溅射靶优选为将氧化锌和氧化锡中的至少一种金属氧化物与金属粉末烧结而得到的靶。