WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | Français | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

国際・国内特許データベース検索
World Intellectual Property Organization
検索
 
閲覧
 
翻訳
 
オプション
 
最新情報
 
ログイン
 
ヘルプ
 
自動翻訳
1. (WO2014179674) APPARATUS AND TECHNIQUES FOR CONTROLLING ION IMPLANTATION UNIFORMITY
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2014/179674    国際出願番号:    PCT/US2014/036551
国際公開日: 06.11.2014 国際出願日: 02.05.2014
IPC:
H01J 37/304 (2006.01), H01J 37/317 (2006.01)
出願人: VARIAN SEMICONDUCTOR EQUIPMENT ASSOCIATES, INC. [US/US]; 35 Dory Road Gloucester, MA 01930 (US)
発明者: TODOROV, Stanislav, S.; (US).
GAMMEL, George, M.; (US).
SPRENKLE, Richard, Allen; (US).
HUSSEY, Norman, E.; (US).
SINCLAIR, Frank; (US).
CHANG, Shengwu; (US).
OLSON, Joseph, C.; (US).
TIMBERLAKE, David, Roger; (US).
DECKER-LUCKE, Kurt, T.; (US)
代理人: DAISAK, Daniel, N.; Kacvinsky Daisak Bluni PLLC 3120 Princeton Pike Suite 303 Lawrenceville, NJ 08648 (US)
優先権情報:
61/819,080 03.05.2013 US
14/037,218 25.09.2013 US
発明の名称: (EN) APPARATUS AND TECHNIQUES FOR CONTROLLING ION IMPLANTATION UNIFORMITY
(FR) APPAREIL ET TECHNIQUES DE COMMANDE DE L'UNIFORMITÉ D'UNE IMPLANTATION IONIQUE
要約: front page image
(EN)A system to control an ion beam in an ion implanter includes a detector to perform a plurality of beam current measurements of the ion beam along a first direction perpendicular to a direction of propagation of the ion beam. The system also includes an analysis component to determine a beam current profile based upon the plurality of beam current measurements, the beam current profile comprising a variation of beam current along the first direction; and an adjustment component to adjust a height of the ion beam along the first direction when the beam current profile indicates the beam height is below a threshold.
(FR)L'invention porte sur un système qui permet de commander un faisceau d'ions dans un dispositif d'implantation ionique et qui comprend un détecteur pour effectuer une pluralité de mesures de courant de faisceau du faisceau ionique dans une première direction, perpendiculaire à une direction de propagation du faisceau ionique. Le système comprend également un composant d'analyse afin de déterminer un profil de courant de faisceau sur la base de la pluralité de mesures de courant de faisceau, le profil de courant de faisceau comportant une variation de courant de faisceau dans la première direction ; un composant de réglage afin de régler une hauteur du faisceau ionique dans la première direction lorsque le profil de courant de faisceau indique que la hauteur de faisceau est au-dessous d'un seuil.
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: English (EN)
国際出願言語: English (EN)