(EN) A deposition chamber system includes a reactor interface, a flow guide attached to the reactor interface, a reactor frame disposed underneath the reactor interface to secure the substrate, and an elastic object having a first end corresponding to a base attached to the reactor frame and a second end corresponding to a compressive body disposed underneath the reactor interface to form a process gas containment seal between the reactor interface and the reactor frame with a compressive force. The flow guide is one of an upstream flow guide to guide a process gas flow into a reactor for performing a deposition process with respect to a substrate loaded in the reactor, or a downstream flow guide to guide remnants out of the reactor after performing the deposition process.
(FR) Un système de chambre de dépôt comprend une interface de réacteur, un guide de flux fixé à l'interface de réacteur, un cadre de réacteur disposé sous l'interface de réacteur pour fixer solidement le substrat, et un objet élastique ayant une première extrémité correspondant à une base fixée au cadre de réacteur et une seconde extrémité correspondant à un corps de compression disposé sous l'interface de réacteur pour former un joint de confinement de gaz de traitement entre l'interface de réacteur et le cadre de réacteur avec une force de compression. Le guide de flux est un guide parmi un guide de flux amont pour guider un flux de gaz de traitement à l'intérieur d'un réacteur pour effectuer un processus de dépôt par rapport à un substrat chargé dans le réacteur, ou un guide de flux aval pour guider les résidus hors du réacteur après la mise en œuvre du processus de dépôt.
