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1. WO2022250394 - MANDRIN ÉLECTROSTATIQUE, DISPOSITIF DE CHAUFFAGE DE MANDRIN ÉLECTROSTATIQUE LE COMPRENANT, ET DISPOSITIF DE MAINTIEN DE SEMI-CONDUCTEURS

Numéro de publication WO/2022/250394
Date de publication 01.12.2022
N° de la demande internationale PCT/KR2022/007278
Date du dépôt international 23.05.2022
CIB
H01L 21/683 2006.1
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
LDISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
67Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitement; Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants
683pour le maintien ou la préhension
H02N 13/00 2006.1
HÉLECTRICITÉ
02PRODUCTION, CONVERSION OU DISTRIBUTION DE L'ÉNERGIE ÉLECTRIQUE
NMACHINES ÉLECTRIQUES NON PRÉVUES AILLEURS
13Embrayages ou dispositifs de maintien utilisant l'attraction électrostatique, p.ex. utilisant l'effet Johnson-Rahbek
B23Q 3/15 2006.1
BTECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
23MACHINES-OUTILS; TRAVAIL DES MÉTAUX NON PRÉVU AILLEURS
QPARTIES CONSTITUTIVES, AMÉNAGEMENTS OU ACCESSOIRES DES MACHINES-OUTILS, p.ex. DISPOSITIONS POUR COPIER OU COMMANDER; MACHINES-OUTILS D'UTILISATION GÉNÉRALE, CARACTÉRISÉES PAR LA STRUCTURE DE CERTAINES PARTIES CONSTITUTIVES OU AMÉNAGEMENTS; COMBINAISONS OU ASSOCIATIONS DE MACHINES POUR LE TRAVAIL DES MÉTAUX, NE VISANT PAS UN TRAVAIL PARTICULIER
3Dispositifs permettant de maintenir, supporter ou positionner les pièces ou les outils, ces dispositifs pouvant normalement être démontés de la machine
15Dispositifs pour tenir les pièces magnétiquement ou électriquement
H01L 21/687 2006.1
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
LDISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
67Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitement; Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants
683pour le maintien ou la préhension
687en utilisant des moyens mécaniques, p.ex. mandrins, pièces de serrage, pinces
H01L 21/67 2006.1
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
LDISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
67Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitement; Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants
H05B 3/14 2006.1
HÉLECTRICITÉ
05TECHNIQUES ÉLECTRIQUES NON PRÉVUES AILLEURS
BCHAUFFAGE ÉLECTRIQUE; ÉCLAIRAGE ÉLECTRIQUE NON PRÉVU AILLEURS
3Chauffage par résistance ohmique
10Eléments chauffants caractérisés par la composition ou la nature des matériaux ou par la disposition du conducteur
12caractérisés par la composition ou la nature du matériau conducteur
14le matériau étant non métallique
CPC
B23Q 3/15
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
QDETAILS, COMPONENTS, OR ACCESSORIES FOR MACHINE TOOLS, e.g. ARRANGEMENTS FOR COPYING OR CONTROLLING
3Devices holding, supporting, or positioning work or tools, of a kind normally removable from the machine
15Devices for holding work using magnetic or electric force acting directly on the work
H01J 37/32
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
32Gas-filled discharge tubes, ; e.g. for surface treatment of objects such as coating, plating, etching, sterilising or bringing about chemical reactions
H01L 21/67
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
LSEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
21Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
H01L 21/683
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
LSEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
21Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
683for supporting or gripping
H01L 21/687
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
LSEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
21Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
683for supporting or gripping
687using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches
H02N 13/00
HELECTRICITY
02GENERATION; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER
NELECTRIC MACHINES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
13Clutches or holding devices using electrostatic attraction, e.g. using Johnson-Rahbek effect
Déposants
  • 주식회사 아모센스 AMOSENSE CO.,LTD [KR]/[KR]
Inventeurs
  • 이지형 LEE, Ji Hyung
Mandataires
  • 특허법인 이룸리온 ERUUM & LEEON INTELLECTUAL PROPERTY LAW FIRM
Données relatives à la priorité
10-2021-006611424.05.2021KR
Langue de publication Coréen (ko)
Langue de dépôt coréen (KO)
États désignés
Titre
(EN) ELECTROSTATIC CHUCK, ELECTROSTATIC CHUCK HEATER COMPRISING SAME, AND SEMICONDUCTOR HOLDING DEVICE
(FR) MANDRIN ÉLECTROSTATIQUE, DISPOSITIF DE CHAUFFAGE DE MANDRIN ÉLECTROSTATIQUE LE COMPRENANT, ET DISPOSITIF DE MAINTIEN DE SEMI-CONDUCTEURS
(KO) 정전 척, 이를 포함하는 정전 척 히터 및 반도체 유지장치
Abrégé
(EN) An electrostatic chuck is provided. Implemented according to an embodiment of the present invention is an electrostatic chuck comprising: a silicon nitride sintered body; a surface modification layer covering at least a portion of the external surface of the silicon nitride sintered body and having corrosion resistance and plasma resistance; and an electrostatic electrode laid inside the silicon nitride sintered body. Therefore, the electrostatic chuck includes a ceramic sintered body of silicon nitride, and thus has excellent plasma resistance, chemical resistance, and thermal shock resistance while exhibiting an equivalent or similar level of heat dissipation performance compared to ceramic sintered bodies of aluminum nitride that have been conventionally widely used, so that the electrostatic chuck can be widely used in semiconductor processes.
(FR) La présente invention concerne un mandrin électrostatique. Selon un mode de réalisation de la présente invention, un mandrin électrostatique comprend : un corps fritté en nitrure de silicium ; une couche de modification de surface recouvrant au moins une partie de la surface externe du corps fritté en nitrure de silicium et ayant une résistance à la corrosion et une résistance au plasma ; et une électrode électrostatique disposée à l'intérieur du corps fritté en nitrure de silicium. Par conséquent, le mandrin électrostatique comprend un corps céramique fritté en nitrure de silicium, et présente ainsi une résistance au plasma, une résistance chimique et une résistance aux chocs thermiques excellentes, tout en affichant un niveau équivalent ou similaire de performances de dissipation de chaleur par rapport aux corps céramiques frittés en nitrure d'aluminium qui ont été traditionnellement largement utilisés, de sorte que le mandrin électrostatique peut être largement utilisé dans les procédés de fabrication de semi-conducteurs.
(KO) 정전 척이 제공된다. 본 발명의 일 실시예에 의한 정전 척은 질화규소 소결체, 상기 질화규소 소결체 외부면을 적어도 일부 덮는 내식성 및 내플라즈마성 표면개질층 및 상기 질화규소 소결체 내부에 매설된 정전전극을 포함하여 구현된다. 이에 의하면, 질화규소인 세라믹스 소결체를 구비함에 따라서 종전 많이 사용되어오던 질화알루미늄 세라믹스 소결체에 대비해 동등 또는 유사 수준의 방열성능을 발현하면서도 내플라즈마성, 내화학성 및 내열충격성이 뛰어남에 따라서 반도체 공정에 널리 이용될 수 있다.
Documents de brevet associés
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