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1. WO2022180838 - PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE DISPOSITIF DE GUIDE D'ONDES OPTIQUE ET SYSTÈME DE PRODUCTION

Numéro de publication WO/2022/180838
Date de publication 01.09.2022
N° de la demande internationale PCT/JP2021/007524
Date du dépôt international 26.02.2021
CIB
G02B 6/132 2006.1
GPHYSIQUE
02OPTIQUE
BÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
6Guides de lumière; Détails de structure de dispositions comprenant des guides de lumière et d'autres éléments optiques, p.ex. des moyens de couplage
10du type guide d'ondes optiques
12du genre à circuit intégré
13Circuits optiques intégrés caractérisés par le procédé de fabrication
132par le dépôt de couches minces
CPC
G02B 6/132
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
6Light guides
10of the optical waveguide type
12of the integrated circuit kind
13Integrated optical circuits characterised by the manufacturing method
132by deposition of thin films
Déposants
  • 日本電信電話株式会社 NIPPON TELEGRAPH AND TELEPHONE CORPORATION [JP]/[JP]
Inventeurs
  • 山口 慶太 YAMAGUCHI Keita
  • 太田 雅 OTA Masashi
  • 柳原 藍 YANAGIHARA Ai
  • 鈴木 賢哉 SUZUKI Kenya
Mandataires
  • 特許業務法人 谷・阿部特許事務所 TANI & ABE, P.C.
Données relatives à la priorité
Langue de publication Japonais (ja)
Langue de dépôt japonais (JA)
États désignés
Titre
(EN) OPTICAL WAVEGUIDE DEVICE PRODUCTION METHOD AND PRODUCTION SYSTEM
(FR) PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE DISPOSITIF DE GUIDE D'ONDES OPTIQUE ET SYSTÈME DE PRODUCTION
(JA) 光導波路デバイスの製造方法および製造システム
Abrégé
(EN) Disclosed are an optical waveguide device production method and production system. This method and system more efficiently and accurately cause inspection results and data which can be obtained during a production process to be reflected in said process. This method and system include obtaining wafer observation data during one or more production process steps which precede a step for etching an optical waveguide pattern into the wafer. Said method and system also include adjusting one or more production process data during the one or more steps which precede the step for etching the optical waveguide pattern into the wafer on the basis of the obtained wafer observation data. For example, the completed optical waveguide device is configured so as to have prescribed properties by adjusting the core width by adjusting one or more production process data, such as the etching conditions.
(FR) Sont divulgués un procédé de production et un système de production de dispositif de guide d'ondes optique. Ce procédé et ce système entraînent de manière plus efficace et précise des résultats et des données d'inspection qui peuvent être obtenus pendant un processus de production à être reflétés dans ledit procédé. Ce procédé et ce système comprennent l'obtention de données d'observation de tranche pendant une ou plusieurs étapes de procédé de production qui précèdent une étape de gravure d'un motif de guide d'ondes optique dans la tranche. Ledit procédé et ledit système comprennent également le réglage d'une ou plusieurs données de processus de production pendant la ou les étapes qui précèdent l'étape pour graver le motif de guide d'ondes optique dans la tranche sur la base des données d'observation de tranche obtenues. Par exemple, le dispositif de guide d'ondes optique achevé est configuré de manière à avoir des propriétés prescrites par réglage de la largeur de noyau par réglage d'une ou plusieurs données de processus de production, telles que les conditions de gravure.
(JA) 光導波路デバイスの製造方法および製造システムが開示される。この方法およびシステムは、製造工程で取得できる検査結果・データを、より効率的に精度良く工程に反映する。この方法およびシステムは、ウェハに光導波路のパターンをエッチングする工程よりも前の1つまたは複数の工程における前記ウェハの観察データを取得することを含む。また、ウェハの取得した観察データに基づいて、ウェハに光導波路のパターンをエッチングする工程以前の1つまたは複数の工程における1つまたは複数の工程データを調整することを含む。例えば、エッチング条件等の1つまたは複数の工程データの調整を通じてコアの幅を調整して、完成した光導波路デバイスが所定の特性をとなるようにする。
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