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1. WO2022092098 - COMPOSITION DE FORMATION DE FILM DE GÉNÉRATION DE RADICAUX, FILM DE GÉNÉRATION DE RADICAUX, PROCÉDÉ DE FABRICATION D'ÉLÉMENT D'AFFICHAGE À CRISTAUX LIQUIDES, ET ÉLÉMENT D'AFFICHAGE À CRISTAUX LIQUIDES

Numéro de publication WO/2022/092098
Date de publication 05.05.2022
N° de la demande internationale PCT/JP2021/039523
Date du dépôt international 26.10.2021
CIB
G02F 1/1337 2006.1
GPHYSIQUE
02OPTIQUE
FDISPOSITIFS OU SYSTÈMES DONT LE FONCTIONNEMENT OPTIQUE EST MODIFIÉ PAR CHANGEMENT DES PROPRIÉTÉS OPTIQUES DU MILIEU CONSTITUANT CES DISPOSITIFS OU SYSTÈMES ET DESTINÉS À LA COMMANDE DE L'INTENSITÉ, DE LA COULEUR, DE LA PHASE, DE LA POLARISATION OU DE LA DIRECTION DE LA LUMIÈRE, p.ex. COMMUTATION, OUVERTURE DE PORTE, MODULATION OU DÉMODULATION; TECHNIQUES NÉCESSAIRES AU FONCTIONNEMENT DE CES DISPOSITIFS OU SYSTÈMES; CHANGEMENT DE FRÉQUENCE; OPTIQUE NON LINÉAIRE; ÉLÉMENTS OPTIQUES LOGIQUES; CONVERTISSEURS OPTIQUES ANALOGIQUES/NUMÉRIQUES
1Dispositifs ou systèmes pour la commande de l'intensité, de la couleur, de la phase, de la polarisation ou de la direction de la lumière arrivant d'une source lumineuse indépendante, p.ex. commutation, ouverture de porte ou modulation; Optique non linéaire
01pour la commande de l'intensité, de la phase, de la polarisation ou de la couleur
13basés sur des cristaux liquides, p.ex. cellules d'affichage individuelles à cristaux liquides
133Dispositions relatives à la structure; Excitation de cellules à cristaux liquides; Dispositions relatives aux circuits
1333Dispositions relatives à la structure
1337Orientation des molécules des cristaux liquides induite par les caractéristiques de surface, p.ex. par des couches d'alignement
C08F 2/00 2006.1
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
08COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
FCOMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES OBTENUS PAR DES RÉACTIONS FAISANT INTERVENIR UNIQUEMENT DES LIAISONS NON SATURÉES CARBONE-CARBONE
2Procédés de polymérisation
C08L 79/08 2006.1
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
08COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
LCOMPOSITIONS CONTENANT DES COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
79Compositions contenant des composés macromoléculaires obtenus par des réactions créant dans la chaîne principale de la macromolécule une liaison contenant uniquement de l'azote, avec ou sans oxygène ou carbone, non prévues dans les groupes C08L61/-C08L77/292
04Polycondensats possédant des hétérocycles contenant de l'azote dans la chaîne principale; Polyhydrazides; Polyamide-acides ou précurseurs similaires de polyimides
08Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide-acides ou précurseurs similaires de polyimides
C08L 101/02 2006.1
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
08COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
LCOMPOSITIONS CONTENANT DES COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
101Compositions contenant des composés macromoléculaires non spécifiés
02caractérisées par la présence de groupes déterminés
Déposants
  • 日産化学株式会社 NISSAN CHEMICAL CORPORATION [JP]/[JP]
Inventeurs
  • 野田 尚宏 NODA Takahiro
  • 三宅 一世 MIYAKE Kazunari
  • 大田 政太郎 OTA Syotaro
Mandataires
  • 高岡 亮一 TAKAOKA Ryoichi
  • 小田 直 ODA Nao
  • 山下 武志 YAMASHITA Takeshi
  • 小森 幸子 KOMORI Yukiko
  • 樋口 喜弘 HIGUCHI Yoshihiro
Données relatives à la priorité
2020-17954327.10.2020JP
Langue de publication Japonais (ja)
Langue de dépôt japonais (JA)
États désignés
Titre
(EN) RADICAL GENERATION FILM-FORMING COMPOSITION, RADICAL GENERATION FILM, METHOD FOR MANUFACTURING LIQUID CRYSTAL DISPLAY ELEMENT, AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY ELEMENT
(FR) COMPOSITION DE FORMATION DE FILM DE GÉNÉRATION DE RADICAUX, FILM DE GÉNÉRATION DE RADICAUX, PROCÉDÉ DE FABRICATION D'ÉLÉMENT D'AFFICHAGE À CRISTAUX LIQUIDES, ET ÉLÉMENT D'AFFICHAGE À CRISTAUX LIQUIDES
(JA) ラジカル発生膜形成組成物、ラジカル発生膜、液晶表示素子の製造方法、及び液晶表示素子
Abrégé
(EN) A radical generation film-forming composition containing a component (A) (a polymer used as an alignment component of a liquid crystal alignment agent for in-plane switching) and a component (B) (a silicon-containing compound having a group represented by formula (1)). (In formula (1): * represents a bonding site, and R1 represents a single bond, -CH2-, -O-, -COO-, -OCO-, -NHCO-, -CONH-, -NH-, -CH2O-, -N(CH3)-, -CON(CH3)-, or -N(CH3)CO-; R2 represents a single bond, or a C1-20 alkylene group that is unsubstituted or substituted with a fluorine atom, where one or more of any -CH2- or -CF2- in the alkylene group may each independently be substituted with a group selected from -CH=CH-, a divalent carbocyclic ring, and a divalent heterocyclic ring, and furthermore, one or more of any -CH2- or -CF2- in the alkylene group may be substituted with any of the following groups, i.e., -O-, -COO-, -OCO-, -NHCO-, -CONH-, or -NH-, provided that said groups are not adjacent to each other; and R3 represents an organic group that induces radical polymerization.)
(FR) L'invention concerne une composition de formation de film de génération de radicaux contenant un composant (A) (un polymère utilisé en tant que composant d'alignement d'un agent d'alignement de cristaux liquides pour commutation dans le plan) et un composant (B) (un composé contenant du silicium ayant un groupe représenté par la formule (1)). (Dans la formule (1) : * représente un site de liaison, et R1 représente une liaison simple -CH2-, -O-, -COO-, -OCO-, -NHCO-, -CONH-, -NH-, -CH2O-, -N(CH3)-, -CON(CH3)-, ou -N(CH3)CO- ; R2 représente une liaison simple, ou un groupe alkylène en C1-20 qui est non substitué ou substitué par un atome de fluor, dans lequel un ou plusieurs des groupes -CH2- ou -CF2- dans le groupe alkylène peuvent être chacun indépendamment substitués par un groupe choisi parmi -CH=CH-, un cycle carbocyclique divalent, et un noyau hétérocyclique divalent, et en outre, un ou plusieurs des groupes CH2- ou -CF2- dans le groupe alkylène peuvent être substitués par l'un quelconque des groupes suivants, c'est-à-dire,-O -,-COO -,-OCO -,-NHCO -,-CONH -, ou-NH -, à condition que lesdits groupes ne soient pas adjacents les uns aux autres ; et R3 représente un groupe organique qui induit une polymérisation radicalaire.)
(JA) 成分(A):横電界駆動用液晶配向剤の配向成分として用いられる重合体、及び 成分(B):下記式(1)で表される基を有するケイ素含有化合物、 を含有するラジカル発生膜形成組成物。(式(1)中、*は結合部位を表し、Rは単結合、-CH-、-O-、-COO-、-OCO-、-NHCO-、-CONH-、-NH-、-CHO-、-N(CH)-、-CON(CH)-、又は-N(CH)CO-を表す。 Rは単結合、又は非置換もしくはフッ素原子によって置換されている炭素数1~20のアルキレン基を表し、当該アルキレン基の任意の-CH-又は-CF-の1以上は、それぞれ独立に-CH=CH-、二価の炭素環、及び二価の複素環から選ばれる基で置き換えられていてもよく、さらに、当該アルキレン基の任意の-CH-又は-CF-の1以上は、次に挙げるいずれかの基、すなわち、-O-、-COO-、-OCO-、-NHCO-、-CONH-、又は-NH-が互いに隣り合わないことを条件に、これらの少なくともいずれかの基で置き換えられていてもよい。 Rは、ラジカル重合を誘発する有機基を表す。)
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