(EN) The invention relates to an ultraviolet radiation filter which is substantially opaque against ultraviolet radiations having a wavelength between 230 nanometers and 340 nanometers, and having maximum transmittance against UV-C radiations the wavelength of which is in a small range around 222 nanometers. The filter comprises a 99.9% silicon dioxide substrate on which a coating including an alternating series of layers of silicon dioxide and hafnium dioxide, respectively, is deposited. The invention further relates to a method for manufacturing the aforesaid filter and to a germicidal device emitting UV-C radiations including said filter.
(FR) L'invention concerne un filtre de rayonnement ultraviolet qui est sensiblement opaque aux rayonnements ultraviolets ayant une longueur d'onde comprise entre 230 nanomètres et 340 nanomètres, et ayant une transmittance maximale vis-à-vis des rayonnements UV-C dont la longueur d'onde est dans une petite plage autour de 222 nanomètres. Le filtre comprend un substrat de dioxyde de silicium à 99,9 % sur lequel un revêtement comprenant une série alternée de couches de dioxyde de silicium et de dioxyde d'hafnium, respectivement, est déposé. L'invention concerne en outre un procédé de fabrication dudit filtre et un dispositif germicide émettant des rayonnements UV-C comprenant ledit filtre.
