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1. WO2022074022 - ÉLÉMENT OPTIQUE ADAPTATIF POUR MICROLITHOGRAPHIE

Numéro de publication WO/2022/074022
Date de publication 14.04.2022
N° de la demande internationale PCT/EP2021/077484
Date du dépôt international 06.10.2021
CIB
G03F 7/20 2006.1
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20Exposition; Appareillages à cet effet
G02B 5/08 2006.1
GPHYSIQUE
02OPTIQUE
BÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
5Eléments optiques autres que les lentilles
08Miroirs
G02B 26/08 2006.1
GPHYSIQUE
02OPTIQUE
BÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
26Dispositifs ou systèmes optiques utilisant des éléments optiques mobiles ou déformables pour commander l'intensité, la couleur, la phase, la polarisation ou la direction de la lumière, p.ex. commutation, ouverture de porte ou modulation
08pour commander la direction de la lumière
G02B 7/185 2021.1
GPHYSIQUE
02OPTIQUE
BÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
7Montures, moyens de réglage ou raccords étanches à la lumière pour éléments optiques
18pour prismes; pour miroirs
182pour miroirs
185avec des moyens pour régler la forme de la surface du miroir
CPC
G02B 26/0825
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
26Optical devices or arrangements using movable or deformable optical elements for controlling the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light, e.g. switching, gating, modulating
08for controlling the direction of light
0816by means of one or more reflecting elements
0825the reflecting element being a flexible sheet or membrane, e.g. for varying the focus
G02B 5/0891
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
5Optical elements other than lenses
08Mirrors
0891Ultraviolet [UV] mirrors
G02B 7/185
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
7Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
18for prisms; for mirrors
182for mirrors
185with means for adjusting the shape of the mirror surface
G03F 7/70266
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70216Systems for imaging mask onto workpiece
70258Projection system adjustment, alignment during assembly of projection system
70266Adaptive optics, e.g. deformable optical elements for wavefront control
G03F 7/7085
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
708Construction of apparatus, e.g. environment, hygiene aspects or materials
7085Detection arrangement, e.g. detectors of apparatus alignment possibly mounted on wafers, exposure dose, photo-cleaning flux, stray light, thermal load
G03F 7/70891
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
708Construction of apparatus, e.g. environment, hygiene aspects or materials
70858Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
70883of optical system
70891Temperature
Déposants
  • CARL ZEISS SMT GMBH [DE]/[DE]
Inventeurs
  • MANGER, Matthias
  • RAAB, Markus
  • VOGLER, Alexander
Mandataires
  • SUMMERER, Christian
  • ZEUNER, Stefan
Données relatives à la priorité
10 2020 212 742.508.10.2020DE
Langue de publication Anglais (en)
Langue de dépôt anglais (EN)
États désignés
Titre
(EN) ADAPTIVE OPTICAL ELEMENT FOR MICROLITHOGRAPHY
(FR) ÉLÉMENT OPTIQUE ADAPTATIF POUR MICROLITHOGRAPHIE
Abrégé
(EN) An adaptive optical element (30-5) for microlithography comprising at least one manipulator (36) for changing the shape of an optical surface (32) of the optical element is provided. The manipulator comprises a one-piece dielectric medium (48) which is deformable by applying an electric field, electrodes (50; 50, 50h) that are arranged in interconnection with the one-piece dielectric medium, and a voltage generator (54) which is wired to the electrodes and configured to apply to the electrodes (50; 50, 50h), firstly, a control voltage that serves to change a longitudinal extent of the dielectric medium (48) and, secondly, an AC voltage that serves to heat the dielectric medium.
(FR) L'invention concerne un élément optique adaptatif (30-5) pour microlithographie comprenant au moins un manipulateur (36) servant à modifier la forme d'une surface optique (32) de l'élément optique. Le manipulateur comprend un milieu diélectrique en une seule pièce (48) qui peut être déformé par l'application d'un champ électrique, des électrodes (50 ; 50, 50h) qui sont agencées de façon à être interconnectées avec le milieu diélectrique en une seule pièce, et un générateur de tension (54) qui est câblé aux électrodes et conçu pour appliquer aux électrodes (50 ; 50, 50h), d'une part, une tension de commande servant à modifier une étendue longitudinale du milieu diélectrique (48), et, d'autre part, une tension alternative servant à chauffer le milieu diélectrique.
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