Traitement en cours

Veuillez attendre...

Paramétrages

Paramétrages

Aller à Demande

1. WO2022070775 - PROCÉDÉ DE FORMATION DE FILM, PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'ARTICLE, DISPOSITIF D'ALIMENTATION, DISPOSITIF DE FORMATION DE FILM ET SUBSTRAT

Numéro de publication WO/2022/070775
Date de publication 07.04.2022
N° de la demande internationale PCT/JP2021/032512
Date du dépôt international 03.09.2021
CIB
B05C 11/10 2006.1
BTECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
05PULVÉRISATION OU ATOMISATION EN GÉNÉRAL; APPLICATION DE LIQUIDES OU D'AUTRES MATÉRIAUX FLUIDES AUX SURFACES, EN GÉNÉRAL
CAPPAREILLAGES POUR L'APPLICATION DE LIQUIDES OU D'AUTRES MATÉRIAUX FLUIDES AUX SURFACES, EN GÉNÉRAL
11Parties constitutives, détails ou accessoires non prévus dans les groupes B05C1/-B05C9/126
10Stockage, débit ou réglage du liquide ou d'un autre matériau fluide; Récupération de l'excès de liquide ou d'un autre matériau fluide
B05D 1/38 2006.1
BTECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
05PULVÉRISATION OU ATOMISATION EN GÉNÉRAL; APPLICATION DE LIQUIDES OU D'AUTRES MATÉRIAUX FLUIDES AUX SURFACES, EN GÉNÉRAL
DPROCÉDÉS POUR APPLIQUER DES LIQUIDES OU D'AUTRES MATÉRIAUX FLUIDES AUX SURFACES, EN GÉNÉRAL
1Procédés pour appliquer des liquides ou d'autres matériaux fluides aux surfaces
36Applications successives de liquides ou d'autres matériaux fluides, p.ex. sans traitement intermédiaire
38avec traitement intermédiaire
B05D 7/00 2006.1
BTECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
05PULVÉRISATION OU ATOMISATION EN GÉNÉRAL; APPLICATION DE LIQUIDES OU D'AUTRES MATÉRIAUX FLUIDES AUX SURFACES, EN GÉNÉRAL
DPROCÉDÉS POUR APPLIQUER DES LIQUIDES OU D'AUTRES MATÉRIAUX FLUIDES AUX SURFACES, EN GÉNÉRAL
7Procédés, autres que le flocage, spécialement adaptés pour appliquer des liquides ou d'autres matériaux fluides, à des surfaces particulières, ou pour appliquer des liquides ou d'autres matériaux fluides particuliers
B05C 5/00 2006.1
BTECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
05PULVÉRISATION OU ATOMISATION EN GÉNÉRAL; APPLICATION DE LIQUIDES OU D'AUTRES MATÉRIAUX FLUIDES AUX SURFACES, EN GÉNÉRAL
CAPPAREILLAGES POUR L'APPLICATION DE LIQUIDES OU D'AUTRES MATÉRIAUX FLUIDES AUX SURFACES, EN GÉNÉRAL
5Appareillages dans lesquels un liquide ou autre matériau fluide est projeté, versé ou répandu sur la surface de l'ouvrage
CPC
B05C 11/10
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
CAPPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
11Component parts, details or accessories not specifically provided for in groups B05C1/00 - B05C9/00
10Storage, supply or control of liquid or other fluent material; Recovery of excess liquid or other fluent material
B05C 5/00
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
CAPPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
5Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
B05D 1/38
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
DPROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
1Processes for applying liquids or other fluent materials
36Successively applying liquids or other fluent materials, e.g. without intermediate treatment
38with intermediate treatment
B05D 7/00
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
DPROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
7Processes, other than flocking, specially adapted for applying liquids or other fluent materials to particular surfaces or for applying particular liquids or other fluent materials
Déposants
  • キヤノン株式会社 CANON KABUSHIKI KAISHA [JP]/[JP]
Inventeurs
  • 加藤 順 KATO, Jun
Mandataires
  • 特許業務法人大塚国際特許事務所 OHTSUKA PATENT OFFICE, P.C.
Données relatives à la priorité
2020-16610530.09.2020JP
Langue de publication Japonais (ja)
Langue de dépôt japonais (JA)
États désignés
Titre
(EN) FILM FORMATION METHOD, ARTICLE PRODUCTION METHOD, SUPPLY DEVICE, FILM FORMATION DEVICE, AND SUBSTRATE
(FR) PROCÉDÉ DE FORMATION DE FILM, PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'ARTICLE, DISPOSITIF D'ALIMENTATION, DISPOSITIF DE FORMATION DE FILM ET SUBSTRAT
(JA) 膜形成方法、物品の製造方法、供給装置、膜形成装置、および基板
Abrégé
(EN) A film formation method according to the present invention is for forming a film on a substrate, said substrate having region that includes a first depression and a second depression, the first depression being wider than the second depression. The film formation method includes a first step for selectively supplying a first material into the first depression so as to mold the first material, and a second step for supplying a second material onto the region so as to mold the second material such that a the second material is filled into the second depression and a flattened film of the second material is formed throughout the entirety of the region.
(FR) Un procédé de formation de film selon la présente invention est destiné à former un film sur un substrat, ledit substrat présentant une région qui comprend un premier creux et un deuxième creux, le premier creux étant plus large que le deuxième creux. Le procédé de formation de film comprend une première étape consistant à introduire sélectivement un premier matériau dans le premier creux de façon à mouler le premier matériau et une deuxième étape consistant à fournir un deuxième matériau sur la région de façon à mouler le deuxième matériau, de telle sorte que le deuxième matériau remplit le deuxième creux et qu'un film aplati du deuxième matériau est formé dans la totalité de la région.
(JA) 基板上に膜を形成する膜形成方法は、前記基板は、第1凹部と第2凹部とを含む領域を有し、前記第1凹部は、前記第2凹部より幅が広く、前記膜形成方法は、前記第1凹部の内部に対して選択的に第1材料を供給し、前記第1材料を成形する第1工程と、前記第2凹部が第2材料で充填され、且つ前記領域の全域にわたって前記第2材料の平坦化膜が形成されるように、前記領域上に前記第2材料を供給し、前記第2材料を成形する第2工程と、を含む。
Documents de brevet associés
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international