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1. WO2022004209 - MANDRIN ÉLECTROSTATIQUE

Numéro de publication WO/2022/004209
Date de publication 06.01.2022
N° de la demande internationale PCT/JP2021/020196
Date du dépôt international 27.05.2021
CIB
H02N 13/00 2006.1
HÉLECTRICITÉ
02PRODUCTION, CONVERSION OU DISTRIBUTION DE L'ÉNERGIE ÉLECTRIQUE
NMACHINES ÉLECTRIQUES NON PRÉVUES AILLEURS
13Embrayages ou dispositifs de maintien utilisant l'attraction électrostatique, p.ex. utilisant l'effet Johnson-Rahbek
H01L 21/683 2006.1
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
LDISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
67Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitement; Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants
683pour le maintien ou la préhension
Déposants
  • 住友大阪セメント株式会社 SUMITOMO OSAKA CEMENT CO., LTD. [JP]/[JP]
Inventeurs
  • 平山 昌樹 HIRAYAMA Masaki
  • 板垣 哲朗 ITAGAKI Tetsuro
Mandataires
  • 西澤 和純 NISHIZAWA Kazuyoshi
  • 佐藤 彰雄 SATO Akio
  • 萩原 綾夏 HAGIWARA Ayaka
Données relatives à la priorité
2020-11180529.06.2020JP
Langue de publication Japonais (ja)
Langue de dépôt japonais (JA)
États désignés
Titre
(EN) ELECTROSTATIC CHUCK
(FR) MANDRIN ÉLECTROSTATIQUE
(JA) 静電チャック
Abrégé
(EN) An electrostatic chuck device provided with: an electrostatic chuck plate having a dielectric substrate, which has a placement surface on which a wafer is placed, and an electrode, which is positioned in the interior of the dielectric substrate; a focus ring that is installed at the outer peripheral portion of the electrostatic chuck plate, and surrounds the placement surface; and a power supply connection part for connecting the electrode and a power supply. The electrostatic chuck plate has a first electrode which, in a planar view, is positioned in a region overlapping the placement surface, and a second electrode which, in a planar view, is positioned in a region overlapping the focus ring. The power supply connection part includes power supply wiring electrically connecting the first electrode and the second electrode via a current adjustment device.
(FR) La présente invention concerne un dispositif de mandrin électrostatique comprenant : une plaque de mandrin électrostatique ayant un substrat diélectrique, qui a une surface de placement sur laquelle une tranche est placée, et une électrode, qui est positionnée à l'intérieur du substrat diélectrique ; une bague de mise au point qui est installée au niveau de la partie périphérique externe de la plaque de mandrin électrostatique, et entoure la surface de placement ; et une partie de connexion d'alimentation électrique destinée à connecter l'électrode et une alimentation électrique. La plaque de mandrin électrostatique comprend une première électrode qui, dans une vue en plan, est positionnée dans une région chevauchant la surface de placement, et une seconde électrode qui, dans une vue en plan, est positionnée dans une région chevauchant la bague de mise au point. La partie de connexion d'alimentation électrique comprend un câblage d'alimentation électrique connectant électriquement la première électrode et la seconde électrode par l'intermédiaire d'un dispositif de réglage de courant.
(JA) ウエハが載置される載置面を有する誘電体基板と、誘電体基板の内部に位置する電極とを有する静電チャックプレートと、静電チャックプレートの外周部に設置され、載置面を囲むフォーカスリングと、電極と電源とを接続する電源接続部と、を備える静電チャック装置。静電チャックプレートは、平面視で載置面と重なる領域に位置する第1電極と、平面視でフォーカスリングと重なる領域に位置する第2電極とを有する。電源接続部は、電流調整器を介して第1電極と第2電極とを電気的に接続する電源配線を含む。
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